• Vakuumloser Tischschleuderbeschichter

    Vakuumloser Tischschleuderbeschichter

    Der VTC-50A Spin Coater verwendet unabhängige Stromversorgungssysteme für Motorteil und Steuerteil, und das Geschwindigkeitskontrollsystem verwendet einen Single-Chip-Mikrocomputer mit hoher Anti-Interferenz zur Steuerung, sodass die Rotationsgeschwindigkeit sehr hoch und stabil im Bereich von 1000 ist -8000 U/min. Der Beschichter verfügt während des Betriebs über zwei Stufen, nämlich T1-Stufe mit niedriger Geschwindigkeit und T2-Stufe mit hoher Geschwindigkeit.

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  • Spin Coater (8.000 U/min, max. 4 Zoll Wafer) mit 3 Vakuumspannfuttern

    Spin Coater (8.000 U/min, max. 4 Zoll Wafer) mit 3 Vakuumspannfuttern

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100 ist mit 3 Vakuumspannfuttern (Standard) unterschiedlicher Größe ausgestattet, und je nach Probengröße können unterschiedliche Vakuumspannfutter verwendet werden. Während des Betriebs verwendet der Vakuum-Spin-Coater VTC-100 die Vakuumplattenadsorptionsmethode, um die Probe auf der Probenplatte zu fixieren. Das Gerät verwendet ein zweistufiges Programm zur Geschwindigkeitsregelung.

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  • Kompakter Spin Coater (8.000 U/min, 4

    Kompakter Spin Coater (8.000 U/min, 4" Wafer max.) Design mit niedrigem Spannfutter

    Der Vakuum-Schleuderbeschichter VTC-100B ist eine verbesserte Version des Vakuum-Schleuderbeschichters VTC-100. Die obere Abdeckung lässt sich zum Öffnen und Schließen zusammenklappen und ist mit einem Sicherheitsschloss ausgestattet. Gleichzeitig verfügt es über die Funktion eines Schutzes bei geöffneter Abdeckung, um die Sicherheit des Bedieners besser zu gewährleisten.

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  • Programmierbarer Vakuum-Chuck-Spin-Coater (500–6000 U/min, max. 20,3 cm)

    Programmierbarer Vakuum-Chuck-Spin-Coater (500–6000 U/min, max. 20,3 cm)

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-200 bietet die Vorteile einer einfachen Bedienung, einer bequemen Reinigung und einer geringen Größe. Es wird hauptsächlich im Filmzüchtungsprozess in Labors von Hochschulen und Universitäten sowie wissenschaftlichen Forschungsinstituten eingesetzt. Während des Betriebs verwendet der Vakuum-Spin-Coater VTC-200 die Vakuumplattenadsorptionsmethode, um die Probe auf der Probenplatte zu fixieren. Das Gerät verwendet ein zweistufiges Programm zur Geschwindigkeitsregelung.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und 5 Zoll max.)

    Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und 5 Zoll max.)

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PA eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Platten, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Er kann für starke saure und starke alkalische Beschichtungslösungen verwendet werden. Das Gerät ist mit zwei Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe (für Standard) ausgestattet, die entsprechend der Probengröße angepasst werden. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern, und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater mit 100 °C Heizabdeckung

    Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater mit 100 °C Heizabdeckung

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PA-I eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Platten, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Er kann für starke saure und starke alkalische Beschichtungslösungen verwendet werden. Das Gerät ist mit zwei Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe (für Standard) ausgestattet, die entsprechend der Probengröße angepasst werden. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern, und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater mit 200 °C-Heizabdeckung

    Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater mit 200 °C-Heizabdeckung

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PA-II eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Platten, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Er kann für starke Säure- und starke Alkali-Beschichtungslösungen verwendet werden. Das Gerät ist mit zwei Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe (für Standard) ausgestattet, die entsprechend der Probengröße angepasst werden. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern, und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) mit UV-Abdeckung

    Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) mit UV-Abdeckung

    Der UV-Spin Coater VTC-100PA-UV eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Die obere Abdeckung nimmt eine UV-Lichtquelle auf und eignet sich besonders für Materialien, die gegenüber UV-Licht empfindlich sind und sich schnell verfestigen können beschichtete Folie. Darüber hinaus verfügt die UV-Lampe auch über eine Polymerisationsfunktion, die das Monomer zu einem Polymerfilm polymerisieren kann.

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  • Anti-Korrosions-Spin-Coater (6.000 U/min und 6-Zoll-Wafer max.)

    Anti-Korrosions-Spin-Coater (6.000 U/min und 6-Zoll-Wafer max.)

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-200P eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern, und jeder Satz enthält 6 Laufstufen. Die obere Abdeckung der Kammer kann die Probe erhitzen (optionale Funktion), was sich positiv auf den Beschichtungsprozess dünnschichtiger Materialien mit hoher Viskosität auswirkt.

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