• Vakuumierbarer und atmosphärengesteuerter Spin Coater

    Vakuumierbarer und atmosphärengesteuerter Spin Coater

    Der Vakuum-Schleuderbeschichter VTC-200PV eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Die Kammer des Vakuum-Schleuderbeschichters VTC-200PV kann vakuumiert werden, um die Probe unter vollständig vakuumierten Bedingungen zu beschichten, was für geeignet ist Filmmaterialien, die an der Luft leicht oxidieren und sich zersetzen. Beim Vakuumieren der Kammer wird die Probe mit einer Klemme fixiert. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern, und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.

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  • Ultrahochgeschwindigkeits-Schleuderbeschichter mit 10.000 U/min

    Ultrahochgeschwindigkeits-Schleuderbeschichter mit 10.000 U/min

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PAX ist eine leistungsstarke Präzisions-Leimnivellierungsmaschine. Es verfügt über ein fortschrittliches Designkonzept und arbeitet mit einem präzisen Bewegungssteuerungssystem zusammen, um einen hochpräzisen und gleichmäßigen Leimauftragsvorgang zu ermöglichen. Es können 6 Programmgruppen gespeichert werden, jedes Programm kann 9 Schritte umfassen. Alle Betriebsparameter wie Geschwindigkeit, Beschleunigung, Rotationszeit etc. lassen sich einfach am Gerät einstellen.

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  • Ultraschall-Spin-Spray-Beschichter mit Heizung und Abzug

    Ultraschall-Spin-Spray-Beschichter mit Heizung und Abzug

    Der Ultraschall-Sprühbeschichter VTC-300BUSS ist ein All-in-One-Filmvorbereitungsgerät mit Kastenstruktur, das die Funktionen Ultraschallzerstäubung, Flüssigkeitseinspritzung und Schleuderbeschichtung kombiniert. Der Durchmesser absorbierbarer Substrate (des Ultraschall-Sprühbeschichters/Leimsprühgeräts VTC-300BUSS) kann bis zu 12 Zoll (300 mm) betragen.

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  • Vakuumloser Tischschleuderbeschichter für den Einsatz im Handschuhfach

    Vakuumloser Tischschleuderbeschichter für den Einsatz im Handschuhfach

    Der VTC-50A-DC Spin Coater verwendet unabhängige Stromversorgungssysteme für Motorteil und Steuerteil, und das Geschwindigkeitskontrollsystem verwendet einen Ein-Chip-Mikrocomputer mit hoher Anti-Interferenz zur Steuerung, sodass die Rotationsgeschwindigkeit im Bereich sehr hoch und stabil ist von 1000-8000 U/min. Der Beschichter verfügt während des Betriebs über zwei Stufen, nämlich T1-Stufe mit niedriger Geschwindigkeit und T2-Stufe mit hoher Geschwindigkeit.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) zur Verwendung im Handschuhfach

    Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) zur Verwendung im Handschuhfach

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PA-DC ist mit 3 Vakuumspannfuttern (Standard) unterschiedlicher Größe ausgestattet, und je nach Probengröße können unterschiedliche Vakuumspannfutter verwendet werden. Während des Betriebs verwendet der Vakuum-Spin-Coater VTC-100-DC die Vakuumplattenadsorptionsmethode, um die Probe auf der Probenplatte zu fixieren. Das Gerät verwendet ein zweistufiges Programm zur Geschwindigkeitsregelung.

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  • Spin-Spray Coater (2000 U/min und max. 6 Zoll) mit Heizabdeckung

    Spin-Spray Coater (2000 U/min und max. 6 Zoll) mit Heizabdeckung

    Der Infrarot-Heizspray-Spin-Coater VTC-200-4P (Leimnivellierer, Entwickler, Leimschleuder, Spin-Coater) mit Heizfunktion der oberen Abdeckung wird hauptsächlich für die Entwicklung von Grafiken und Oberflächenbeschichtungen in der Halbleiter- und Plattenherstellungstechnologie verwendet. Nach dem Nivellieren oder Entwickeln des Klebers verdunstet das Lösungsmittel im Kolloidfilm auf den niedrigsten Gehalt. Während des Arbeitsprozesses wird die Entwicklungsflüssigkeit oder das Entwicklungskolloid in Form eines Nebels auf die Probe gesprüht, sodass die Lösung gleichmäßig auf der Probenoberfläche verteilt wird, was der reibungslosen Leistung des Films und dem Entwicklungsprozess zuträglich ist.

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  • Anti-Korrosions-Spin-Coater (6.000 U/min und 6-Zoll-Wafer max.) –

    Anti-Korrosions-Spin-Coater (6.000 U/min und 6-Zoll-Wafer max.) –

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-200P eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern, und jeder Satz enthält 6 Laufstufen. Die obere Abdeckung der Kammer kann die Probe erhitzen (optionale Funktion), was sich positiv auf den Beschichtungsprozess dünnschichtiger Materialien mit hoher Viskosität auswirkt.

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