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Einkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter
Der Einkopf-Magnetron-Sputter-Coater VTC-600-1HD ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Hochvakuum-Beschichtungsanlage und dient zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen, PTFE-Filmen usw. Der Einkopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-1HD ist mit einer Zielpistole ausgestattet, die zwischen einem starken und einem schwachen magnetischen Ziel wählen kann.
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Doppelkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter
Der Doppelkopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-2HD ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Hochvakuum-Beschichtungsanlage und wird zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen, PTFE-Filmen usw. verwendet. Der Doppelkopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-2HD ist mit zwei Targetpistolen und zwei Stromversorgungen ausgestattet, einer HF-Stromversorgung zum Sputtern nichtleitender Materialien und einer Gleichstromversorgung zum Sputtern leitender Materialien.
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Plasma-Sputter-Beschichter mit 3 Sputterquellen
Der Dreikopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-3HD ist ein von unserem Unternehmen neu entwickeltes Beschichtungsgerät und wird zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen, PTFE-Filmen usw. verwendet. Der Dreikopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-3HD ist mit drei Target-Kanonen, einer HF-Stromversorgung zum Sputtern von nichtleitenden Materialien und zwei Gleichstromversorgungen zum Sputtern von leitenden Materialien ausgestattet.
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Plasma-Sputter-Beschichter mit 3 Sputterquellen und Handschuhbox
Das VGB-600-3HD-System zur Vorbereitung von Dünnschichtbatterien kann experimentelle Vorgänge in einer Handschuhbox durchführen und wird zur Vorbereitung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen, PTFE-Filmen usw. verwendet. Das System ist mit drei Zielpistolen und einer HF-Stromversorgung für die Sputterbeschichtung verschiedener Zielmaterialien ausgestattet. Die HF-Stromversorgung kann über einen Transferschalter an jeden Zielkopf angeschlossen werden.
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