Doppelkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter
marke Shenyang Kejing
Die HERKUNFT der Produkte Shenyang, China
Die lieferzeit 22 Werktage
Die fähigkeit, 50 Sätze
Der VTC-600-2HD Dual-Head Magnetron Sputtering Coater ist ein von unserem Unternehmen neu entwickeltes Hochvakuum-Beschichtungsgerät und wird zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen usw. verwendet. dielektrischer Film, optischer Film, Oxidfilm, Hartfilm, PTFE-Film usw. Der Doppelkopf-Magnetron-Sputterbeschichter VTC-600-2HD ist mit zwei Zielkanonen und zwei Netzteilen sowie einem HF-Netzteil für die Sputterbeschichtung von nichtleitendem Material ausgestattet Materialien und ein Gleichstromnetzteil für die Sputterbeschichtung leitfähiger Materialien.
Haupteigenschaften
1. Es ist mit zwei Zielkanonen ausgestattet, ein HF-Netzteil wird für die Sputterbeschichtung nichtleitender Materialien und ein Gleichstromnetzteil für die Sputterbeschichtung leitender Materialien verwendet.
2. Es kann eine Vielzahl dünner Filme mit einem breiten Anwendungsspektrum hergestellt werden.
3. Klein und einfach zu bedienen
TTechnische Parameter
Produktname | VTC-600-2HD Doppelkopf-Magnetron-Sputter-Beschichter |
Produktmodell | VTC-600-2HD |
Installationsbedingungen | Dieses Gerät muss in einer Höhe von 1000 m oder weniger, einer Temperatur von 25 °C ± 15 °C und einer Luftfeuchtigkeit von 55 % rF ± 10 % rF verwendet werden. 1. Wasser: Das Gerät ist mit einem selbstzirkulierenden Wasserkühler ausgestattet (Befüllung mit reinem Wasser oder entionisiertem Wasser). 2. Strom: AC220V 50Hz, muss über eine gute Erdung verfügen 3. Gas: Die Gerätekammer muss mit Argongas (Reinheit 99,99 % oder mehr) gefüllt sein und Argongasflaschen (mit Ø6-mm-Doppelklemmringverbindungen) und ein Druckminderventil müssen vom Benutzer bereitgestellt werden. 4. Werkbank: Größe 1500 mm × 600 mm × 700 mm, Tragfähigkeit mehr als 200 kg 5. Belüftungsgerät: erforderlich |
Hauptparameter (Spezifikation) | 1. Versorgungsspannung: 220 V 50 Hz 2. Leistung: 900 W 3. Innendurchmesser der Kammer: Ø300mm 4. Grenze des Vakuumgrades: 9,0×10-4Pa 5. Heiztemperatur des Probentisches: RT-500℃, Genauigkeit ±1℃ (Die Temperatur kann je nach tatsächlichem Bedarf erhöht werden.) 6. Anzahl der Zielgeschütze: 2 Stück (andere Mengen optional) 7. Kühlmethode der Zielwaffe: Wasserkühlung 8. Größe des Zielmaterials: Ø2″, Dicke 0,1–5 mm (unterschiedliche Dicken aufgrund unterschiedlicher Zielmaterialien) 9. DC-Sputterleistung: 500 W; HF-Sputterleistung: 300 W (Die Art der Target-Stromversorgung ist optional, Sie können zwischen zwei Gleichstrom-Netzteilen oder zwei HF-Netzteilen oder einem Gleichstrom-Netzteil plus einem HF-Netzteil wählen.) 10. Probentisch: Ø140 mm, optionale Vorspannungsfunktion kann je nach Kundenwunsch installiert werden, um eine höhere Beschichtungsqualität zu erreichen. 11. Geschwindigkeit des Probentisches: einstellbar zwischen 1 und 20 U/min 12. Arbeitsgas: Ar und andere Inertgase 13. Ansaugluftpfad: Der Massendurchflussmesser steuert zwei Luftansaugpfade, einer für 100 SCCM und der andere für 200 SCCM. |
Produktabmessungen und -gewichte | 1. Hauptmaschinenabmessungen: 500 mm × 560 mm × 660 mm 2. Gesamtabmessungen: 1300 mm × 660 mm × 1200 mm 3. Vakuumkammerabmessungen: φ300×300mm 4. Gewicht: 160 kg
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Standardzubehör | 1. Gleichstrom-Steuerungssystem: 1 Satz 2. HF-Leistungssteuerungssystem: 1 Satz 3. Filmdickenüberwachungssystem: 1 Satz 4. Molekularpumpe (importiert aus Deutschland): 1 Stk 5. Wasserkühler: 1 Stk 6.Polyester-PU-Rohr (Ø6 mm): 4 m |
Optionales Zubehör | Verschiedene Targetmaterialien wie Gold, Indium, Silber, Platin usw. |
Garantie
Ein Jahr begrenzt mit lebenslangem Support (ausgenommen verrostete Teile aufgrund unzureichender Lagerbedingungen)
Logistik
