Doppelkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter

Produktmodell

VTC-600-2HD

Installationsbedingungen

1. Anforderungen an die Werkbank:
   · Abmessungen: L1300 mm × B750 mm × H700 mm; Tragfähigkeit ≥200 kg.

2.Wasserversorgung:
   · Ausgestattet mit einem selbstzirkulierenden Kühler KJ-5000 (verwenden Sie gereinigtes oder deionisiertes Wasser).

3.Gasversorgung:
  · Benötigt Argongas (Reinheit ≥99,99 %).
  · Der Benutzer sollte seine eigene Argonflasche (mit Ø6 mm Doppelklemmringanschluss) und seinen eigenen Druckregler vorbereiten.

4. Belüftung:
  · Der Aufstellungsort sollte gut belüftet sein (ggf. kann eine zusätzliche Absaugung installiert werden).

5. Stromversorgung:  

  · Einphasig: AC 220 V, 50 Hz, 10 A.
  · An der Stromquelle muss ein 16A-Luftschalter installiert werden.

6.Umweltbedingungen:  

  · Betriebstemperatur: 25 °C ± 15 °C; Luftfeuchtigkeit: ≤ 55 % relative Luftfeuchtigkeit ± 10 %.  

  · Die Umgebung sollte trocken, staubfrei und frei von brennbaren oder explosiven Gasen sein.

Wichtige Parameter

(Spezifikation)

Kategorie

Spezifikation

Hinweise

Vakuumkammergröße: D φ295 × H265 mm

Vakuumpumpensatz:

• Turbopumpe: Hipace 80
• Vorpumpe: MVP015-2DC Membranpumpe

Original Pfeiffer (Deutschland)

Erforderliches Basisvakuum vor der Abscheidung

Endvakuum: 5,0E-4 Pa (5,0E-6 hPa)

Arbeitsdruck: 0,1–5 Pa (0,001–0,05 hPa)

Hauptsächlich Argon; reaktive Gase können hinzugefügt werden

• Vorpumpe 1 m³/h; Turbopumpe 67 L/s

Die Vakuumierzeit hängt von der Pumpgeschwindigkeit ab

PStromversorgungskonfiguration

Stromart und -menge:

DC ×1, RF ×1

DC: für metallische Ziele, RF: für isolierende Ziele; (Optional kann ein starkes magnetisches Ziel mit dem Leistungstyp kombiniert werden)

Ausgangsleistungsbereich:

• Gleichstrom: 0–500 W

• HF: 0–300 W

Leistung oderAusgangsmodus / Maximale Ausgangsleistung

Anpassungsimpedanz: 50Ω

Gewährleistet Effizienz und Stabilität der Kraftübertragung

Gasregelung

Arbeitsgas: Standardd: Argon (Ar)

Empfohlen: Ar, Reinheit 99,999

Gasfluss(2 Kanäle)

• Kanal 1: 1–100 sccm
• Kanal 2: 1–200 sccm

DERAndere Arten von Schutzgasen können bei Bedarf angepasst werden

Durchflussmessergenauigkeit: ±1 % FS

≈5,2 Zoll

Rotationsgeschwindigkeit: 1–20 U/min

Verbessert die Filmgleichmäßigkeit

Heiztemperatur: RT ~ 500 °C

Oberflächentemperatur des Probentisches

Temperaturgenauigkeit: ±1 °C

Magnetron-Ziel

Zielmenge: 2 Stück

Kann unabhängig oder gleichzeitig verwendet werden

Zielgröße: Ø 2 Zoll, Dicke 0,1–5 mm

Die Dicke variiert je nach Zielmaterial

Ziel-Substrat-Abstand: 85–115 mm einstellbar

Größerer Abstand verbessert die Gleichmäßigkeit, verringert die Rate leicht

Kühlmethode: Wasserkühlung

Wasserzirkulation zur Kühlung des Ziels

Abscheidungsleistung und Sonstiges

Schlüsselfaktoren: optimierter Target-Substrat-Abstand und Rotationsgeschwindigkeit

Zu große Dicke kann Spannungsrisse verursachen

Max. Leistungsaufnahme:

• Haupteinheit: 500 W;

• HF-Stromversorgung: 1100 W;

• Gleichstromversorgung: 750 W

Die Haupteinheit, die HF-Stromversorgung, die Gleichstromversorgung und der Filmdickenmonitor werden alle unabhängig voneinander mit Strom versorgt

• Einphasiger Wechselstrom 220 V, 50/60 Hz

Abmessungen der Haupteinheit: 600 mm × 750 mm × 900 mm

Höhe mit geöffnetem Deckel: 1050 mm

DERGesamtabmessungen: 1300 m × 750 mm × 900 mm

ICHinklusive Steuer- und Pumpenraum

Gleichstromversorgungs-Steuerungssystem

1 Satz

HF-Stromversorgungs-Steuerungssystem

1 Satz

Filmdickenüberwachungssystem

1 Satz

Turbopumpe

(Deutsch importiert oder inländisch mit höherer Pumpgeschwindigkeit)

1 Einheit

Kühler

1 Einheit

Polyester-PU-Schlauch (Ø6 mm)

4 m

Verschiedene Zielmaterialien wie Gold, Indium, Silber, Platin usw.

Optional

Optionales starkes magnetisches Target zum Sputtern ferromagnetischer Materialien

Doppelschicht-Rotationsabscheidungsvorrichtung