Doppelkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter
Der Doppelkopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-2HD ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Hochvakuum-Beschichtungsanlage und wird zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen, PTFE-Filmen usw. verwendet. Der Doppelkopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-2HD ist mit zwei Targetpistolen und zwei Stromversorgungen ausgestattet, einer HF-Stromversorgung zum Sputtern nichtleitender Materialien und einer Gleichstromversorgung zum Sputtern leitender Materialien.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 22 Arbeitstage
- 50 Sätze
- Information
Haupteigenschaften
1. Es ist mit zwei Zielpistolen ausgestattet, eine HF-Stromversorgung wird zum Sputtern von nichtleitenden Materialien verwendet und eine Gleichstrom-Stromversorgung wird zum Sputtern von leitenden Materialien verwendet.
2. Es können verschiedene Dünnschichten für ein breites Anwendungsspektrum hergestellt werden.
3. Kleine Größe und einfach zu bedienen
TTechnische Parameter
Produktname | VTC-600-2HD Doppelkopf-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage |
Produktmodell | VTC-600-2HD |
Installationsbedingungen | Dieses Gerät muss in einer Höhe von 1000 m oder weniger, bei einer Temperatur von 25 °C ± 15 °C und einer Luftfeuchtigkeit von 55 % relativer Luftfeuchtigkeit ± 10 % relativer Luftfeuchtigkeit verwendet werden. 1. Wasser: Das Gerät ist mit einem selbstzirkulierenden Wasserkühler ausgestattet (Füllung mit reinem Wasser oder deionisiertem Wasser) 2. Elektrizität: AC220V 50Hz, muss gut geerdet sein 3. Gas: Die Gerätekammer muss mit Argongas (Reinheit 99,99 % oder mehr) gefüllt werden. Argongasflaschen (mit Doppelklemmringverbindungen Ø 6 mm) und ein Druckminderventil müssen vom Benutzer bereitgestellt werden. 4. Werkbank: Größe 1500 mm × 600 mm × 700 mm, trägt mehr als 200 kg 5. Belüftungsgerät: erforderlich |
Wichtige Parameter (Spezifikation) | 1. Versorgungsspannung: 220 V, 50 Hz 2. Leistung: 900W 3. Innendurchmesser der Kammer: Ø300mm 4. Vakuumgradgrenze: 9,0 × 10-4 Pa 5. Heiztemperatur des Probentisches: RT-500 °C, Genauigkeit ±1 °C (Die Temperatur kann je nach Bedarf erhöht werden.) 6. Anzahl der Zielpistolen: 2 Stück (andere Mengen auf Anfrage) 7. Kühlmethode der Zielwaffe: Wasserkühlung 8. Größe des Zielmaterials: Ø2″, Dicke 0,1–5 mm (unterschiedliche Dicken aufgrund unterschiedlicher Zielmaterialien) 9. DC-Sputterleistung: 500 W; RF-Sputterleistung: 300 W (Die Art der Zielstromversorgung ist optional. Sie können zwischen zwei DC-Stromversorgungen oder zwei RF-Stromversorgungen oder einer DC-Stromversorgung plus einer RF-Stromversorgung wählen.) 10. Probentisch: Ø 140 mm, optionale Vorspannungsfunktion kann je nach Kundenwunsch installiert werden, um eine höhere Beschichtungsqualität zu erreichen. 11. Geschwindigkeit des Probentisches: einstellbar im Bereich von 1 bis 20 U/min 12. Arbeitsgas: Argon und andere Inertgase 13. Ansaugluftweg: Der Massendurchflussmesser steuert zwei Luftansaugwege, einer ist 100 SCCM und der andere ist 200 SCCM. |
Produktabmessungen und Gewicht | 1. Hauptmaschinenabmessungen: 500 mm × 560 mm × 660 mm 2. Gesamtmaße: 1300 mm × 660 mm × 1200 mm 3. Vakuumkammerabmessung: φ300×300mm 4. Gewicht: 160kg
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Standardzubehör | 1. Gleichstrom-Leistungssteuerungssystem: 1 Satz 2. HF-Leistungskontrollsystem: 1 Satz 3. Filmdickenüberwachungssystem: 1 Satz 4. Molekularpumpe (aus Deutschland importiert): 1 Stück 5. Wasserkühler: 1 Stück 6.Polyester-PU-Rohr (Ø6mm): 4m |
Optionales Zubehör | Verschiedene Zielmaterialien wie Gold, Indium, Silber, Platin usw. |
Garantie
Ein Jahr eingeschränkt mit lebenslangem Support (ausgenommen verrostete Teile aufgrund unzureichender Lagerbedingungen)
Logistik
