Plasma-Sputter-Beschichter mit 3 Sputterquellen

marke Shenyang Kejing

Die HERKUNFT der Produkte Shenyang, China

Die lieferzeit 22 Werktage

Die fähigkeit, 50 Sätze

Der Dreikopf-Magnetron-Sputterbeschichter VTC-600-3HD ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Beschichtungsanlage, die zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen und dielektrischen Filmen verwendet wird , optischer Film, Oxidfilm, Hartfilm, PTFE-Film usw. Der dreiköpfige Magnetron-Sputterbeschichter VTC-600-3HD ist mit drei Zielkanonen, einem HF-Netzteil für die Sputterbeschichtung nichtleitender Materialien und zwei Gleichstromversorgungen ausgestattet Zubehör für die Sputterbeschichtung leitfähiger Materialien.

Email

Plasma-Sputter-Beschichter mit 3 Sputterquellen

Haupteigenschaften

1. Es ist mit drei Zielpistolen ausgestattet, eine HF-Stromversorgung wird für die Sputterbeschichtung nichtleitender Materialien verwendet und zwei Gleichstromversorgungen werden für die Sputterbeschichtung leitfähiger Materialien verwendet (Die Zielpistole kann je nach Kundenwunsch ausgetauscht werden) .

2. Es kann eine Vielzahl dünner Filme mit einem breiten Anwendungsspektrum hergestellt werden.

3. Klein und einfach zu bedienen

4. Modularer Aufbau der gesamten Maschine; Separates/geteiltes Design von Vakuumkammer, Vakuumpumpengruppe und Steuerstromversorgung, das an die tatsächlichen Bedürfnisse der Benutzer angepasst werden kann.

5. Die Stromversorgung kann entsprechend den tatsächlichen Bedürfnissen des Benutzers ausgewählt werden. Eine Stromversorgung kann mehrere Zielgeschütze steuern, oder mehrere Stromquellen können ein einzelnes Zielgeschütz steuern.

TTechnische Parameter

Produktname	VTC-600-3HD Dreikopf-Magnetron-Sputter-Beschichter
Produktmodell	VTC-600-3HD
Installationsbedingungen	Dieses Gerät muss in einer Höhe von 1000 m oder weniger, einer Temperatur von 25 °C ± 15 °C und einer Luftfeuchtigkeit von 55 % rF ± 10 % rF verwendet werden. 1. Wasser: Das Gerät ist mit einem selbstzirkulierenden Wasserkühler ausgestattet (Befüllung mit reinem Wasser oder entionisiertem Wasser). 2. Strom: AC220V 50Hz, muss über eine gute Erdung verfügen 3. Gas: Die Gerätekammer muss mit Argongas (Reinheit 99,99 % oder mehr) gefüllt sein und Argongasflaschen (mit Ø6-mm-Doppelklemmringverbindungen) und ein Druckminderventil müssen vom Benutzer bereitgestellt werden. 4. Werkbank: Größe 1500 mm × 600 mm × 700 mm, Tragfähigkeit mehr als 200 kg 5. Belüftungsgerät: erforderlich
Hauptparameter (Spezifikation)	1. Versorgungsspannung: 220 V 50 Hz 2. Leistung: <2,5 kW 3. Grenze des Vakuumgrades: E-6 mbar (E-5 mbar kann bei Verwendung mit der Ausrüstung unseres Unternehmens erreicht werden) 4. Heiztemperatur: RT-500℃, Genauigkeit ±1℃ (Temperatur kann je nach tatsächlichem Bedarf erhöht werden.) 5. Anzahl der Zielgeschütze: 3 Stk 6. Kühlmethode der Zielwaffe: Wasserkühlung 7. Größe des Zielmaterials: Ø2″, Dicke 0,1–5 mm (unterschiedliche Dicken aufgrund unterschiedlicher Zielmaterialien) 8. DC-Sputterleistung: 500 W (optional) 9. HF-Sputterleistung: 300 W/500 W (optional) 10. Probentisch: Ø140 mm, optionale Vorspannungsfunktion kann je nach Kundenwunsch installiert werden, um eine höhere Beschichtungsqualität zu erreichen. 11. Geschwindigkeit des Probentisches: einstellbar zwischen 1 und 20 U/min 12. Arbeitsgas: Ar, N₂und andere Inertgase 13. Ansaugluftpfad: Der Massendurchflussmesser steuert zwei Luftansaugpfade, einer für 100 SCCM und der andere für 200 SCCM.
Produktabmessungen und -gewichte	Hauptmaschinenabmessungen: 500 mm × 560 mm × 660 mm Gesamtabmessungen: 1300 mm × 660 mm × 1200 mm Gewicht: 160 kg
Standardzubehör	1. Gleichstrom-Steuerungssystem: 2 Sätze 2. HF-Leistungssteuerungssystem: 1 Satz 3. Filmdickenüberwachungssystem: 1 Satz 4. Molekularpumpe (importiert aus Deutschland): 1 Stk 5. Wasserkühler: 1 Stk 6.Polyester-PU-Rohr (Ø6 mm): 4 m
Optionales Zubehör	1. Verschiedene Targetmaterialien wie Gold, Indium, Silber, Platin usw. 2. Maske 3. Vibrierender Probentisch