Plasma-Sputter-Beschichter mit 3 Sputterquellen
Der Dreikopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-3HD ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Beschichtungsanlage und wird zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen, PTFE-Filmen usw. verwendet. Der Dreikopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-3HD ist mit drei Targetkanonen, einer HF-Stromversorgung zum Sputtern nichtleitender Materialien und zwei Gleichstromversorgungen zum Sputtern leitender Materialien ausgestattet.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 22 Arbeitstage
- 50 Sätze
- Information
Produkteinführung
Das VTC-600-3HD ist ein von unserem Unternehmen eigenständig entwickeltes Hochvakuum-Dünnschichtabscheidungssystem. Es ist für die Herstellung verschiedener funktionaler Dünnschichten konzipiert und ermöglicht die hochwertige Abscheidung sowohl ein- als auch mehrschichtiger Strukturen. Dieses System wird häufig zur Herstellung von ferroelektrischen Schichten, leitfähigen Schichten, Legierungsschichten, Halbleiterschichten, Keramikschichten, dielektrischen Schichten, optischen Beschichtungen, Oxidschichten, Hartbeschichtungen und PTFE-Schichten eingesetzt.
Der VTC-600-3HD ist mit drei Sputtertargets ausgestattet. Ein Target ist mit einer HF-Stromversorgung gekoppelt und eignet sich für nichtleitende Materialien wie Oxide und Keramik. Die beiden anderen Targets werden über Gleichstromversorgungen zum Sputtern leitfähiger Materialien wie Metalle betrieben. Diese Konfiguration bietet eine breite Materialkompatibilität.
Im Vergleich zu ähnlichen Systemen zeichnet sich dieses Modell durch kompaktes Design, rationale Struktur und benutzerfreundliche Bedienung aus und bietet gleichzeitig eine hervorragende multifunktionale Integration. Es eignet sich besonders für Forschungslabore, die sich mit der Entwicklung und Prozessuntersuchung neuer Materialsysteme wie Festkörperelektrolyten und OLED-Geräten beschäftigen. Der VTC-600-3HD dient als ideales Magnetron-Sputtersystem im Labormaßstab für die fortgeschrittene Dünnschichtforschung.
Hauptmerkmale
1. Es ist mit drei Zielpistolen ausgestattet, eine HF-Stromversorgung wird zum Sputtern von nichtleitenden Materialien verwendet und zwei Gleichstromversorgungen werden zum Sputtern von leitenden Materialien verwendet (die Zielpistolen können je nach Kundenwunsch ausgetauscht werden).
2. Es können verschiedene Dünnschichten mit einem breiten Anwendungsspektrum hergestellt werden.
3. Kleine Größe und einfach zu bedienen
4. Modularer Aufbau der gesamten Maschine; separater/geteilter Aufbau von Vakuumkammer, Vakuumpumpengruppe und Steuerstromversorgung, der an die tatsächlichen Bedürfnisse der Benutzer angepasst werden kann.
5. Die Stromversorgung kann entsprechend den tatsächlichen Anforderungen des Benutzers ausgewählt werden. Eine Stromversorgung kann mehrere Zielpistolen steuern, oder mehrere Stromquellen können eine einzelne Zielpistole steuern.
TTechnische Parameter
Produktname | VTC-600-3HD Dreikopf-Magnetron-Sputter-Beschichter | ||
Produktmodell | VTC-600-3HD | ||
| Installationsbedingungen | 1. Umgebung: Umgebungstemperatur: 25 °C ± 15 °C; Luftfeuchtigkeit: ≤ 55 % RH ± 10 % RH. Die Umgebung sollte trocken, staubfrei und frei von brennbaren oder explosiven Gasen sein. 2. Wasserversorgung: Ausgestattet mit einem selbstzirkulierenden Kühler KJ-5000, der gereinigtes oder deionisiertes Wasser verwendet. 3. Stromversorgung: Einphasig AC 220 V, 50 Hz, 10 A, mit einem 16 A-Leistungsschalter an der Vorderseite. 4. Gasbedarf: Es wird Argongas (Reinheit ≥99,99 %) benötigt. Der Benutzer sollte eine Argonflasche mit Ø6 mm Doppelklemmring und Druckregler bereitstellen. 5. Anforderungen an die Werkbank: Es wird eine stabile Werkbank mit den Abmessungen L1300 mm × B750 mm × H700 mm und einer Tragfähigkeit von ≥200 kg empfohlen. 6. Belüftung: Am Installationsort ist eine ausreichende Belüftung erforderlich. Bei Bedarf kann ein zusätzliches Luftaustausch- oder Abluftsystem installiert werden. | ||
Wichtige Parameter (Spezifikation) | Kategorie | Spezifikation | Hinweise |
Vakuumsystem | Vakuumkammergröße: φ295 × H265 mm | Edelstahlkammer mit ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit | |
Vakuumpumpensatz: · Molekularpumpe: Hipace80 Turbomolekularpumpe · Vorpumpe: MVP015-2DC Membranpumpe | Original Pfeiffer-System mit hoher Pumpleistung | ||
Basisvakuum: 5,0E-3Pa (5,0E-5hPa) | Basisvakuum vor der Abscheidung | ||
Endvakuum: 5,0E-4Pa (5,0E-6hPa) | Beeinflusst durch Umgebung und Versiegelungsqualität | ||
| Arbeitsdruck: 0,1–5 Pa (0,001–0,05 hPa) | Hauptsächlich Argon, reaktive Gase optional | ||
Pumpgeschwindigkeit: · Vorpumpe: 1 m³/h · Molekularpumpe: 67 l/s | Bestimmt die Effizienz der Staubsaugungszeit | ||
| Stromversorgungskonfiguration | Stromart und -menge： · DC (Gleichstrom): 2 Einheiten | Gleichstrom wird für metallische Ziele verwendet und HF für isolierende Ziele. | |
Ausgangsleistungsbereich: · Gleichstrom: 0 ~ 500 W · HF: 0~300W | Einstellbare Leistung für verschiedene Materialien | ||
| Anpassungsimpedanz: 50 Ω | Sorgt für eine stabile und effiziente Kraftübertragung | ||
Gasregelung | Arbeitsgas: Standardkonfiguration – Argon (Ar) | Es wird empfohlen, Argon mit einer Reinheit von ≥99,999 zu verwenden. | |
| Gasfluss (2 Kanäle)： · Kanal 1: 1–100 sccm | Zwei unabhängige Massenflusskanäle, anpassbar für andere Gase | ||
Durchflussmessergenauigkeit: ±1 % FS | Hochpräzises MFC-System | ||
Rotierender Probentisch | Bühnengröße: Ø132 mm (≈5,2 Zoll) | Kompatibel mit mehreren Substratgrößen | |
Rotationsgeschwindigkeit: 1–20 U/min | Verbessert die Filmgleichmäßigkeit | ||
| Heiztemperatur: RT–500 °C | Substratoberflächenheizung mit konstanter Temperaturregelung | ||
TTemperaturgenauigkeit: ±1 °C | PID-Temperaturkontrollsystem | ||
| Magnetrontargets | Zielmenge: 3 Stück | Einzeln oder gleichzeitig bedienbar | |
· Zielgröße: Ø2 Zoll · Dicke: 0,1–5 mm | Die Dicke variiert je nach Material | ||
| Ziel-Substrat-Abstand: 85–115 mm einstellbar | Größerer Abstand verbessert die Gleichmäßigkeit, verringert die Rate leicht | ||
| Kühlmethode: Wasserkühlung | Umwälzkühlsystem schützt die Zieltemperatur | ||
Abscheidungsleistung und Sonstiges | Filmgleichmäßigkeit: ±5 % (Ø 100 mm Substrat) | Hauptsächlich bestimmt durch Ziel-Substrat-Abstand und Rotationsgeschwindigkeit | |
Filmdickenbereich: 10 nm–10 μm | Zu große Dicke kann Spannungsrisse verursachen | ||
Max. Leistungsaufnahme: · Hauptgerät: 500 W; · HF-Stromversorgung: 1100 W; · Gleichstromversorgung: 750 W | Unabhängige Stromversorgungssysteme für Haupteinheit, HF, DC und Dickenmonitor. | ||
| Eingangsleistung： · Einphasig: AC220V 50/60Hz | Eine ordnungsgemäße Erdung erfordert | ||
| Abmessungen der Haupteinheit: · 600 mm × 750 mm × 900 mm | Höhe mit geöffnetem Deckel: 1050 mm | ||
Gesamtabmessungen: · 1300 m × 750 mm × 900 mm | Inklusive Steuer- und Pumpenraum | ||
| Gesamtgewicht: 160 kg | Ohne Kühlsystem | ||
Standardzubehör
NEIN. | Name | Menge | Bild |
| 1 | Gleichstromversorgungs-Steuerungssystem | 2 Sätze | - |
| 2 | HF-Stromversorgungs-Steuerungssystem | 1 Satz | - |
| 3 | Filmdickenüberwachungssystem | 1 Satz | - |
| 4 | Molekularpumpe (deutscher Import oder Inland mit höherer Pumpgeschwindigkeit) | 1 Einheit | - |
| 5 | Kühler | 1 Einheit | - |
| 6 | Polyester-PU-Schlauch (Ø6 mm) | 4 m | - |
Optionales Zubehör
| NEIN. | Name | Funktionskategorie | Bild |
| 1 | Verschiedene Ziele (Gold, Indium, Silber, Platin usw.) | Optional | - |
| 2 | Starkes magnetisches Target (zum Sputtern ferromagnetischer Materialien) | Optional | - |
| 3 | Maske | Optional | - |
| 4 | Vibrierender Probentisch | Optional | - |
| 5 | Rotierende Doppelschicht-Beschichtungsvorrichtung | Optional |  |
Garantie
Ein Jahr eingeschränkter Support mit lebenslanger Garantie (ausgenommen verrostete Teile aufgrund unzureichender Lagerbedingungen)
Logistik
