Einkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputterbeschichtungsanlage

Die VTC-600-1HD Single-Head Magnetron Sputtering Coater ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Hochvakuum-Beschichtungsanlage und dient zur Herstellung von ein- oder mehrlagigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen, PTFE-Filmen usw.
Die VTC-600-1HD Magnetron-Sputteranlage mit einem Magnetkopf ist mit einer Targetkanone ausgestattet und kann zwischen einem stark magnetischen Target und einem schwach magnetischen Target wählen.

marke: Shenyang Kejing
Die HERKUNFT der Produkte: Shenyang, China
Die lieferzeit: 22 Werktage
Die fähigkeit,: 50 Sets

Information

Produkteinführung

Das VTC-600-1HD Single-Target-Magnetron-Sputtersystem ist ein von unserem Unternehmen neu entwickeltes Hochvakuum-Beschichtungsgerät. Es wurde speziell für Forschungseinrichtungen und Labore zur Herstellung einer Vielzahl von Dünnschichten konzipiert. Das System eignet sich zur Fertigung von ein- und mehrlagigen Filmen wie ferroelektrischen, leitfähigen, Legierungs-, Halbleiter-, Keramik-, dielektrischen, optischen, Oxid-, Hart- und PTFE-Filmen.

Die VTC-600-1HD ist mit einer Magnetron-Sputterkanone ausgestattet, die je nach Anwendung entweder mit einem starken oder einem schwachen magnetischen Target konfiguriert werden kann:

• Das schwach magnetische Target eignet sich zum Sputtern nichtmagnetischer Materialien.
• Das starke Magnettarget ist für das effiziente Sputtern ferromagnetischer Materialien ausgelegt.

Ausgestattet mit einer Hochvakuumkammer und einem stabilen Leistungsregelungssystem gewährleistet die VTC-600-1HD eine hervorragende Schichtgleichmäßigkeit und Haftung. Im Vergleich zu ähnlichen Geräten zeichnet sie sich durch ein kompaktes Design, einfache Bedienung und breite Materialkompatibilität aus und ist somit die ideale Wahl für die Dünnschichtabscheidung im Labor und die Forschung an fortgeschrittenen Materialien.

Hauptmerkmale

1. Es ist mit einer Zielkanone ausgestattet, wobei entweder eine HF-Stromversorgung für die Sputterbeschichtung nichtleitender Materialien oder eine Gleichstromversorgung für die Sputterbeschichtung leitfähiger Materialien verwendet wird.

2. Es können verschiedene Dünnschichten mit einem breiten Anwendungsspektrum hergestellt werden.

3. Kleine Größe und einfache Bedienung

TTechnische Parameter

Produktname	VTC-600-1HD Einkopf-Magnetron-Sputteranlage
Produktmodell	VTC-600-1HD
Installationsbedingungen	Dieses Gerät muss bei einer Temperatur von 25℃±15℃ und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 55%Rh±10%Rh betrieben werden. 1. Wasser: Das Gerät ist mit einem selbstzirkulierenden Wasserkühler ausgestattet (Befüllung mit reinem Wasser oder deionisiertem Wasser). 2. Stromversorgung: Wechselstrom 220 V, 50 Hz, muss gut geerdet sein 3. Gas: Die Gerätekammer muss mit Argongas (Reinheit 99,99 % oder mehr) befüllt werden. Argongasflaschen (mit Ø6 mm Doppelklemmringverschraubungen) und ein Druckminderungsventil müssen vom Benutzer bereitgestellt werden. 4. Werkbank: Abmessungen 1500 mm × 600 mm × 700 mm, Tragfähigkeit über 200 kg 5. Beatmungsgerät: erforderlich
Hauptparameter (Spezifikation)	1. Netzspannung: 220 V, 50 Hz 2. Leistung: <1 kW (ohne Vakuumpumpe) 3. Innendurchmesser der Kammer: Ø300 mm 4. Grenzwert des Vakuumgrades: 9,0 × 10^-4Also 5. Heiztemperatur des Probentisches: RT-500℃, Genauigkeit ±1℃ (Die Temperatur kann je nach Bedarf erhöht werden.) 6. Anzahl der Zielpistolen: 1 Stück (andere Mengen auf Anfrage) 7. Kühlmethode der Zielkanone: Wasserkühlung 8. Größe des Zielmaterials: Ø2″, Dicke 0,1-5 mm (unterschiedliche Dicken aufgrund unterschiedlicher Zielmaterialien) 9. DC-Sputterleistung: 500 W; RF-Sputterleistung: 300 W (Die Art der Zielstromversorgung ist optional: eine DC-Stromversorgung oder eine RF-Stromversorgung.) 10. Probentisch: Ø140mm, optional kann je nach Kundenwunsch eine Vorspannungsfunktion installiert werden, um eine höhere Beschichtungsqualität zu erzielen. 11. Drehzahl des Probentisches: einstellbar zwischen 1 und 20 U/min 12. Arbeitsgas: Argon und andere Edelgase 13. Ansaugluftweg: Der Massenstrommesser steuert zwei Ansaugluftwege, einen mit 100 SCCM und den anderen mit 200 SCCM.
Produktabmessungen und Gewicht	1. Hauptmaschinenabmessungen: 500 mm × 560 mm × 660 mm 2. Gesamtabmessungen: 1300 mm × 660 mm × 1200 mm 3. Gewicht: 160 kg 4. Abmessungen der Vakuumkammer: φ300×300 mm

Standardzubehör

NEIN.	Name	Menge	Bild
1	Gleichstrom-Steuerungssystem (optional)	1 Satz	-
2	HF-Leistungsregelungssystem (optional)	1 Satz	-
3	Wasserspender	1 Stück	-
4	Polyester-PU-Rohr (Ø6mm)	4 m	-

Optionales Zubehör

NEIN.	Name	Funktionskategorie	Bild
1	Verschiedene Zielmaterialien wie Gold, Indium, Silber, Platin usw.	optional	-
2	Optionales starkes Magnettarget zum Sputtern ferromagnetischer Materialien	optional	-
3	Filmdickenüberwachungssystem	optional	-
4	Molekularpumpe (importiert aus Deutschland)	optional	-