Einkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter

marke Shenyang Kejing

Die HERKUNFT der Produkte Shenyang, China

Die lieferzeit 22 Werktage

Die fähigkeit, 50 Sätze

Der Einkopf-Magnetron-Sputter-Beschichter VTC-600-1HD ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Hochvakuum-Beschichtungsanlage, die zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen usw. verwendet wird. dielektrischer Film, optischer Film, Oxidfilm, Hartfilm, PTFE-Film usw.
Der Einkopf-Magnetron-Sputter-Beschichter VTC-600-1HD ist mit einer Zielkanone ausgestattet und kann zwischen einem starken magnetischen Ziel und einem schwach magnetischen Ziel wählen.

Email

Einkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter

Haupteigenschaften

1. Es ist mit einer Zielkanone ausgestattet, wobei ein HF-Netzteil für die Sputterbeschichtung nichtleitender Materialien oder ein Gleichstromnetzteil für die Sputterbeschichtung leitender Materialien ausgewählt werden kann.

2. Es kann eine Vielzahl dünner Filme mit einem breiten Anwendungsspektrum hergestellt werden.

3. Klein und einfach zu bedienen

TTechnische Parameter

Produktname	VTC-600-1HD Einkopf-Magnetron-Sputter-Beschichter
Produktmodell	VTC-600-1HD
Installationsbedingungen	Dieses Gerät muss in einer Höhe von 1000 m oder weniger, einer Temperatur von 25 °C ± 15 °C und einer Luftfeuchtigkeit von 55 % rF ± 10 % rF verwendet werden. 1. Wasser: Das Gerät ist mit einem selbstzirkulierenden Wasserkühler ausgestattet (Befüllung mit reinem Wasser oder entionisiertem Wasser). 2. Strom: AC220V 50Hz, muss über eine gute Erdung verfügen 3. Gas: Die Gerätekammer muss mit Argongas (Reinheit 99,99 % oder mehr) gefüllt sein und Argongasflaschen (mit Ø6-mm-Doppelklemmringverbindungen) und ein Druckminderventil müssen vom Benutzer bereitgestellt werden. 4. Werkbank: Größe 1500 mm × 600 mm × 700 mm, Tragfähigkeit mehr als 200 kg 5. Belüftungsgerät: erforderlich
Hauptparameter (Spezifikation)	1. Versorgungsspannung: 220 V 50 Hz 2. Leistung: <1KW (ohne Vakuumpumpe) 3. Innendurchmesser der Kammer: Ø300mm 4. Grenze des Vakuumgrades: 9,0×10-4Pa 5. Heiztemperatur des Probentisches: RT-500℃, Genauigkeit ±1℃ (Die Temperatur kann je nach tatsächlichem Bedarf erhöht werden.) 6. Anzahl der Zielgeschütze: 1 Stück (andere Mengen optional) 7. Kühlmethode der Zielwaffe: Wasserkühlung 8. Größe des Zielmaterials: Ø2″, Dicke 0,1–5 mm (unterschiedliche Dicken aufgrund unterschiedlicher Zielmaterialien) 9. DC-Sputterleistung: 500 W; HF-Sputterleistung: 300 W (Die Art der Target-Stromversorgung ist optional: ein Gleichstromnetzteil oder ein HF-Netzteil.) 10. Probentisch: Ø140 mm, optionale Vorspannungsfunktion kann je nach Kundenwunsch installiert werden, um eine höhere Beschichtungsqualität zu erreichen. 11. Geschwindigkeit des Probentisches: einstellbar zwischen 1 und 20 U/min 12. Arbeitsgas: Ar und andere Inertgase 13. Ansaugluftpfad: Der Massendurchflussmesser steuert zwei Luftansaugpfade, einer für 100 SCCM und der andere für 200 SCCM.
Produktabmessungen und -gewichte	1. Hauptmaschinenabmessungen: 500 mm × 560 mm × 660 mm 2. Gesamtabmessungen: 1300 mm × 660 mm × 1200 mm 3. Gewicht: 160 kg 4. Abmessungen der Vakuumkammer: φ300×300mm
Standardzubehör	1. Gleichstrom-Steuerungssystem: 1 Satz (optional) 2. HF-Leistungssteuerungssystem: 1 Satz (optional) 3. Wasserkühler: 1 Stk 4. Polyester-PU-Rohr (Ø6 mm): 4 m
Optionales Zubehör	1. Verschiedene Targetmaterialien wie Gold, Indium, Silber, Platin usw. 2. Filmdickenüberwachungssystem 3. Molekularpumpe (importiert aus Deutschland)