Einkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter
Der Einkopf-Magnetron-Sputter-Coater VTC-600-1HD ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Hochvakuum-Beschichtungsanlage und wird zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen, PTFE-Filmen usw. verwendet.
Der Einkopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-1HD ist mit einer Zielkanone ausgestattet, die ein starkes oder ein schwaches magnetisches Ziel auswählen kann.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 22 Arbeitstage
- 50 Sätze
- Information
Produkteinführung
Das VTC-600-1HD Single-Target-Magnetron-Sputtersystem ist ein neu entwickeltes Hochvakuum-Beschichtungsgerät, das von unserem Unternehmen entwickelt und hergestellt wird. Es wurde speziell für Forschungseinrichtungen und Labore zur Herstellung einer breiten Palette dünner Schichten entwickelt. Das System eignet sich zur Herstellung ein- und mehrschichtiger Filme wie ferroelektrischer Filme, leitfähiger Filme, Legierungsfilme, Halbleiterfilme, Keramikfilme, dielektrischer Filme, optischer Filme, Oxidfilme, Hartbeschichtungen und PTFE-Filme.
Der VTC-600-1HD ist mit einer Magnetron-Sputterkanone ausgestattet, die je nach Anwendung entweder mit einem starken oder einem schwachen magnetischen Target konfiguriert werden kann:
· Das schwach magnetische Target eignet sich zum Sputtern nichtmagnetischer Materialien.
· Das starke magnetische Target ist für das effiziente Sputtern ferromagnetischer Materialien ausgelegt.
Dank seiner Hochvakuumkammer und eines stabilen Leistungsregelungssystems gewährleistet der VTC-600-1HD eine hervorragende Filmgleichmäßigkeit und Haftung. Im Vergleich zu ähnlichen Geräten bietet er ein kompaktes Design, eine einfache Bedienung und eine breite Materialkompatibilität. Damit ist er die ideale Wahl für die Dünnschichtabscheidung im Labor und die Forschung zu fortschrittlichen Materialien.
Hauptmerkmale
1. Es ist mit einer Zielpistole ausgestattet. Zur Auswahl steht eine HF-Stromversorgung für die Sputterbeschichtung nichtleitender Materialien oder eine Gleichstromversorgung für die Sputterbeschichtung leitender Materialien.
2. Es können verschiedene Dünnschichten mit einem breiten Anwendungsspektrum hergestellt werden.
3. Kleine Größe und einfach zu bedienen
TTechnische Parameter
Produktname | VTC-600-1HD Einkopf-Magnetron-Sputter-Beschichter |
Produktmodell | VTC-600-1HD |
Installationsbedingungen | Dieses Gerät muss in einer Höhe von 1000 m oder weniger, bei einer Temperatur von 25 °C ± 15 °C und einer Luftfeuchtigkeit von 55 % RH ± 10 % RH verwendet werden. 1. Wasser: Das Gerät ist mit einem selbstzirkulierenden Wasserkühler ausgestattet (Füllung mit reinem Wasser oder deionisiertem Wasser). 2. Strom: AC220V 50Hz, muss gut geerdet sein 3. Gas: Die Gerätekammer muss mit Argongas (Reinheit 99,99 % oder mehr) gefüllt werden, und Argongasflaschen (mit Doppelklemmringverbindungen Ø6 mm) und ein Druckminderventil müssen vom Benutzer bereitgestellt werden. 4. Werkbank: Größe 1500 mm × 600 mm × 700 mm, Tragkraft über 200 kg 5. Belüftungsgerät: erforderlich |
Wichtige Parameter (Spezifikation) | 1. Versorgungsspannung: 220 V 50 Hz 2. Leistung: <1 kW (ohne Vakuumpumpe) 3. Innendurchmesser der Kammer: Ø300 mm 4. Grenze des Vakuumgrads: 9,0 × 10-4Also 5. Heiztemperatur des Probentisches: RT-500 °C, Genauigkeit ±1 °C (Die Temperatur kann je nach Bedarf erhöht werden.) 6. Anzahl der Zielpistolen: 1 Stück (andere Mengen auf Anfrage) 7. Kühlmethode der Zielpistole: Wasserkühlung 8. Größe des Zielmaterials: Ø2″, Dicke 0,1–5 mm (unterschiedliche Dicken aufgrund unterschiedlicher Zielmaterialien) 9. DC-Sputterleistung: 500 W; HF-Sputterleistung: 300 W (Die Art der Zielstromversorgung ist optional: eine DC-Stromversorgung oder eine HF-Stromversorgung.) 10. Probentisch: Ø140 mm, optionale Vorspannungsfunktion kann je nach Kundenwunsch installiert werden, um eine höhere Beschichtungsqualität zu erreichen. 11. Geschwindigkeit der Probenbühne: einstellbar zwischen 1 und 20 U/min 12. Arbeitsgas: Argon und andere Inertgase 13. Ansaugluftweg: Der Massendurchflussmesser steuert 2 Luftansaugwege, einen mit 100 SCCM und den anderen mit 200 SCCM. |
| Produktabmessungen und Gewicht | 1. Hauptmaschinenabmessungen: 500 mm × 560 mm × 660 mm 2. Gesamtmaße: 1300 mm × 660 mm × 1200 mm 3. Gewicht: 160 kg 4. Vakuumkammerabmessung: φ300×300mm |
Standardzubehör
| NEIN. | Name | Menge | Bild |
| 1 | Gleichstrom-Leistungssteuerungssystem (optional) | 1 Satz | - |
| 2 | HF-Leistungssteuerungssystem (optional) | 1 Satz | - |
| 3 | Wasserkühler | 1 Stück | - |
| 4 | Polyester-PU-Rohr (Ø6 mm) | 4 m | - |
Optionales Zubehör
| NEIN. | Name | Funktionskategorie | Bild |
| 1 | Verschiedene Zielmaterialien wie Gold, Indium, Silber, Platin usw. | optional | - |
| 2 | Optionales starkes magnetisches Target zum Sputtern ferromagnetischer Materialien | optional | - |
| 3 | Schichtdickenüberwachungssystem | optional | - |
| 4 | Molekularpumpe (aus Deutschland importiert) | optional | - |
VonGarantie
Ein Jahr eingeschränkter Support mit lebenslanger Garantie (ausgenommen verrostete Teile aufgrund unzureichender Lagerbedingungen)
Logistik
