Einkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter

marke Shenyang Kejing

Die HERKUNFT der Produkte Shenyang, China

Die lieferzeit 22 Arbeitstage

Die fähigkeit, 50 Sätze

Der Einkopf-Magnetron-Sputter-Coater VTC-600-1HD ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Hochvakuum-Beschichtungsanlage und dient zur Herstellung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen, PTFE-Filmen usw.
Der Einkopf-Magnetron-Sputtercoater VTC-600-1HD ist mit einer Zielpistole ausgestattet, die zwischen einem starken und einem schwachen magnetischen Ziel wählen kann.

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Einkopf-Hochvakuum-Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichter

Haupteigenschaften

1. Es ist mit einer Zielpistole ausgestattet. Zur Auswahl steht eine HF-Stromversorgung zum Sputtern von nichtleitenden Materialien oder eine Gleichstrom-Stromversorgung zum Sputtern von leitenden Materialien.

2. Es können verschiedene Dünnschichten für ein breites Anwendungsspektrum hergestellt werden.

3. Kleine Größe und einfach zu bedienen

TTechnische Parameter

Produktname	VTC-600-1HD Einkopf-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage
Produktmodell	VTC-600-1HD
Installationsbedingungen	Dieses Gerät muss in einer Höhe von 1000 m oder weniger, bei einer Temperatur von 25 °C ± 15 °C und einer Luftfeuchtigkeit von 55 % relativer Luftfeuchtigkeit ± 10 % relativer Luftfeuchtigkeit verwendet werden. 1. Wasser: Das Gerät ist mit einem selbstzirkulierenden Wasserkühler ausgestattet (Füllung mit reinem Wasser oder deionisiertem Wasser) 2. Elektrizität: AC220V 50Hz, muss gut geerdet sein 3. Gas: Die Gerätekammer muss mit Argongas (Reinheit 99,99 % oder mehr) gefüllt werden. Argongasflaschen (mit Doppelklemmringverbindungen Ø 6 mm) und ein Druckminderventil müssen vom Benutzer bereitgestellt werden. 4. Werkbank: Größe 1500 mm × 600 mm × 700 mm, trägt mehr als 200 kg 5. Belüftungsgerät: erforderlich
Wichtige Parameter (Spezifikation)	1. Versorgungsspannung: 220 V, 50 Hz 2. Leistung: <1 kW (ohne Vakuumpumpe) 3. Innendurchmesser der Kammer: Ø300mm 4. Vakuumgradgrenze: 9,0 × 10-4 Pa 5. Heiztemperatur des Probentisches: RT-500 °C, Genauigkeit ±1 °C (Die Temperatur kann je nach Bedarf erhöht werden.) 6. Anzahl der Zielpistolen: 1 Stück (andere Mengen auf Anfrage) 7. Kühlmethode der Zielwaffe: Wasserkühlung 8. Größe des Zielmaterials: Ø2″, Dicke 0,1–5 mm (unterschiedliche Dicken aufgrund unterschiedlicher Zielmaterialien) 9. DC-Sputterleistung: 500 W; RF-Sputterleistung: 300 W (Die Art der Zielstromversorgung ist optional: eine DC-Stromversorgung oder eine RF-Stromversorgung.) 10. Probentisch: Ø 140 mm, optionale Vorspannungsfunktion kann je nach Kundenwunsch installiert werden, um eine höhere Beschichtungsqualität zu erreichen. 11. Geschwindigkeit des Probentisches: einstellbar im Bereich von 1 bis 20 U/min 12. Arbeitsgas: Argon und andere Inertgase 13. Ansaugluftweg: Der Massendurchflussmesser steuert zwei Luftansaugwege, einer ist 100 SCCM und der andere ist 200 SCCM.
Produktabmessungen und Gewicht	1. Hauptmaschinenabmessungen: 500 mm × 560 mm × 660 mm 2. Gesamtmaße: 1300 mm × 660 mm × 1200 mm 3. Gewicht: 160kg 4. Vakuumkammerabmessung: φ300×300mm
Standardzubehör	1. Gleichstrom-Leistungssteuerungssystem: 1 Satz (optional) 2. HF-Leistungskontrollsystem: 1 Satz (optional) 3. Wasserkühler: 1 Stück 4. Polyester-PU-Rohr (Ø6mm): 4m
Optionales Zubehör	1. Verschiedene Zielmaterialien wie Gold, Indium, Silber, Platin usw. 2. Schichtdickenüberwachungssystem 3. Molekularpumpe (aus Deutschland importiert)