Hochvakuum-Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage

Einführung in die Ausrüstung für Laborbeschichtungen:

Die Magnetron-Sputteranlage VTC-800G ist eine von uns selbst entwickelte, kompakte Anlage. Sie findet breite Anwendung bei der Herstellung von ein- oder mehrlagigen ferroelektrischen, leitfähigen, Legierungs-, Halbleiter-, Keramik-, dielektrischen, optischen, Oxid-, Hart- und Polytetrafluorethylen-Filmen.

Kleine Beschichtungsanlagen können mit einem Mehrziel-Sputtersystem ausgestattet werden, das die HF-Leistungszerstäubung von nichtleitenden Materialien und die Gleichstrom-Leistungszerstäubung von leitenden Materialien unterstützt, um verschiedenen Prozessanforderungen gerecht zu werden.

Im Vergleich zu ähnlichen Geräten zeichnet sich die VTC-800G Small-Beschichtungsanlage durch ihre kompakte Bauweise, einfache Bedienung und flexible Einsatzmöglichkeiten aus. Sie ist die ideale Wahl für die Laborherstellung funktionaler Dünnschichtmaterialien und eignet sich besonders für die Forschung und Entwicklung neuer Materialien wie Festelektrolyte und OLEDs.

Hauptmerkmale von Präzisionsbeschichtungsanlagen:

1. Kleine Beschichtungsanlagen können mit mehreren Targetkanonen ausgestattet werden, die HF- und Gleichstromversorgungen unterstützen und für die Sputterbeschichtung von nichtleitenden bzw. leitenden Targetmaterialien verwendet werden. Die Targetkanonen können je nach Bedarf flexibel ausgetauscht werden.

2. Präzisionsbeschichtungsanlagen eignen sich für die Herstellung verschiedener Funktionsfilme und haben ein breites Anwendungsspektrum.

3. Präzisionsbeschichtungsanlagen sind klein, kompakt, einfach zu bedienen und für verschiedene Laborumgebungen geeignet.

4. Die Präzisionsbeschichtungsanlage ist modular aufgebaut, wobei Vakuumkammer, Pumpengruppe und Leistungssteuerungssystem getrennt sind und je nach Bedarf flexibel kombiniert werden können.

5. Laborbeschichtungsanlagen unterstützen mehrere Leistungssteuerungsmethoden: ein einzelnes Netzteil steuert mehrere Zielpistolen oder mehrere Netzteile steuern unabhängig voneinander die Zielpistolen, um unterschiedlichen Prozessanforderungen gerecht zu werden.

Technische Parameter der Präzisionsbeschichtungsanlage:

Produktname	VTC-800G Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage
Produktmodell	VTC-800G
Hauptparameter	1. Kammeraufbau: zylindrische Deckelkonstruktion, hinteres Abgassystem. 2. Ultimatives Vakuum: 6,0 × 10-5Also. 3. Vakuumleckrate: ≤0,5 Pa innerhalb von 1 Stunde. 4. Entlüftungszeit: etwa 30 Minuten von Atmosphärendruck auf 5,0 × 10-3Also. 5. Konfiguration der Vakuumpumpengruppe: mechanische Pumpe + Molekularpumpe. 6. Parameter der Probenphase: • Größe: Ø205 • Temperaturbereich: Raumtemperatur ~ 500℃, Genauigkeit ±1℃ • Drehzahl: 5~20 U/min (einstellbar). 7. Bias-Funktion: optional (wird zur Verbesserung der Filmqualität verwendet). 8. Gasfüllsystem: Zweikanal-Massenstrommesser (jeweils Argon/Stickstoff) 9. Winkel des Zielkopfes: Der Winkel zwischen dem Zielkopf und der Mittelachse des Probentisches beträgt 34°. 10. Anzahl der Zielköpfe: Standardmäßig 2 (optional erweiterbar auf 4). 11. Kühlmethode für Zielgewehre: Wasserkühlung 12. Spezifikationen des Zielmaterials: Durchmesser Ø3″, Dicke 0,1~5 mm (abhängig vom Zielmaterial)
	13. Spezifikationen der Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage: • Gesamtgröße: 700 mm × 1093 mm × 1380 mm

Über uns:

Unser Unternehmen ist seit vielen Jahren in der Filmproduktion tätig und verfügt über umfassende Erfahrung. Wir bieten Ihnen eine breite Palette an Geräten für verschiedene Materialien, um Ihren unterschiedlichen Bedürfnissen gerecht zu werden. Gerne unterstützen wir Sie auch bei der Funktionsprüfung unserer Geräte. Sie können uns Muster zur Verfügung stellen, und wir erstellen Ihnen gerne ein Muster, damit Sie sich von der Wirkung unserer Produkte überzeugen können. Sollten Sie mit unseren Produkten zufrieden sein, können Sie diese erwerben und Ihre Arbeit effizienter gestalten.