Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage

Einführung von Laborbeschichtungsgeräten:

VTC-800G ist eine kleine, von uns eigenständig entwickelte Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage. Kleine Beschichtungsanlagen werden häufig zur Herstellung von ein- und mehrschichtigen ferroelektrischen Filmen, leitfähigen Filmen, Legierungsfilmen, Halbleiterfilmen, Keramikfilmen, dielektrischen Filmen, optischen Filmen, Oxidfilmen, Hartfilmen und Polytetrafluorethylenfilmen eingesetzt.

Kleine Beschichtungsanlagen können mit einem Mehrziel-Pistolensystem ausgestattet werden, das das HF-Sputtern nichtleitender Materialien und das DC-Sputtern leitender Materialien unterstützt, um verschiedene Prozessanforderungen zu erfüllen.

Im Vergleich zu ähnlichen Geräten ist die Beschichtungsanlage VTC-800G Small klein, einfach zu bedienen und flexibel einsetzbar. Sie eignet sich ideal für die Laborherstellung funktionaler Dünnschichtmaterialien und insbesondere für die Forschung und Entwicklung neuer Materialien wie Festelektrolyte und OLEDs.

Hauptmerkmale der Präzisionsbeschichtungsanlage:

1. Kleine Beschichtungsgeräte können mit mehreren Targetpistolen ausgestattet werden, die HF- und Gleichstromversorgungen unterstützen und zum Sputtern von nichtleitenden bzw. leitenden Targetmaterialien verwendet werden. Die Targetpistolen können bei Bedarf flexibel ausgetauscht werden.

2. Präzisionsbeschichtungsgeräte sind mit der Herstellung verschiedener Funktionsfilme kompatibel und haben ein breites Anwendungsspektrum.

3. Präzisionsbeschichtungsgeräte sind klein, kompakt aufgebaut, einfach zu bedienen und für verschiedene Laborumgebungen geeignet.

4. Die Präzisionsbeschichtungsanlage ist modular aufgebaut. Vakuumkammer, Pumpengruppe und Leistungssteuerungssystem sind getrennt und können je nach Bedarf flexibel kombiniert werden.

5. Laborbeschichtungsgeräte unterstützen mehrere Methoden zur Leistungssteuerung: Eine einzelne Stromversorgung steuert mehrere Zielpistolen oder mehrere Stromversorgungen steuern Zielpistolen unabhängig voneinander, um unterschiedliche Prozessanforderungen zu erfüllen.

Technische Parameter der Präzisionsbeschichtungsanlage:

Produktname	Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlagen
Produktmodell	VTC-800G
Hauptparameter	1. Kammerstruktur: zylindrisches Design der oberen Abdeckung, hinteres Abgassystem. 2. Endvakuum: 6,0×10-5 Pa. 3. Vakuumleckrate: ≤0,5 Pa innerhalb von 1 Stunde. 4. Entlüftungszeit: ca. 30 Minuten von Atmosphäre auf 5,0×10-3 Pa. 5. Konfiguration der Vakuumpumpengruppe: mechanische Pumpe + Molekularpumpe. 6. Beispielphasenparameter: · Größe: Ø205 · Temperaturbereich: Raumtemperatur ~ 500 °C, Genauigkeit ± 1 °C · Rotationsgeschwindigkeit: 5–20 U/min (einstellbar). 7. Bias-Funktion: optional (zur Verbesserung der Filmqualität). 8. Gasfüllsystem: Zweikanal-Massendurchflussmesser (jeweils Argon/Stickstoff) 9. Zielkopfwinkel: Der Winkel zwischen dem Zielkopf und der Mittelachse des Probentisches beträgt 34° 10. Anzahl Zielköpfe: 2 als Standard (optional auf 4 erweiterbar). 11. Zielpistole Kühlmethode: Wasserkühlung 12. Zielmaterialspezifikationen: Durchmesser Ø3″, Dicke 0,1–5 mm (abhängig vom Zielmaterial)
	13. Spezifikationen der Magnetron-Sputter-Beschichtungsanlage: · Gesamtgröße: 700 mm × 1093 mm × 1380 mm

Über uns:

Unser Unternehmen ist seit vielen Jahren in der Filmproduktion tätig und verfügt über umfassende Erfahrung. Darüber hinaus verfügt unser Unternehmen über eine Vielzahl von Geräten für unterschiedliche Materialien, um Ihren unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden. Wir helfen Ihnen gerne, die Wirkung der Geräte zu testen. Sie können uns Muster zur Verfügung stellen, und wir erstellen Muster, damit Sie die Wirkung unserer Produkte besser verstehen. Wenn Sie mit unseren Produkten zufrieden sind, können Sie sie kaufen und Ihre Arbeit reibungsloser gestalten.