• Spin Coater (8.000 U/min, max. 4-Zoll-Wafer) mit 3 Vakuum-Chucks

    Spin Coater (8.000 U/min, max. 4-Zoll-Wafer) mit 3 Vakuum-Chucks

    Der Vakuum-Spincoater VTC-100 ist standardmäßig mit 3 Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe ausgestattet. Je nach Probengröße können unterschiedliche Vakuumspannfutter verwendet werden. Während des Betriebs verwendet der Vakuum-Spincoater VTC-100 die Vakuumplattenadsorptionsmethode, um die Probe auf der Probenplatte zu fixieren. Das Gerät verwendet ein zweistufiges Programm zur Steuerung der Geschwindigkeit.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) mit UV-Abdeckung

    Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) mit UV-Abdeckung

    Der UV-Spincoater VTC-100PA-UV eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Die obere Abdeckung verwendet eine UV-Lichtquelle und eignet sich besonders für UV-empfindliche Materialien, da der beschichtete Film dadurch schnell verfestigt werden kann. Darüber hinaus verfügt die UV-Lampe auch über eine Polymerisationsfunktion, die das Monomer zu einem Polymerfilm polymerisieren kann.

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  • Vakuumierbarer und atmosphärisch gesteuerter Spin Coater

    Vakuumierbarer und atmosphärisch gesteuerter Spin Coater

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-200PV eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Die Kammer des Vakuum-Spin-Coaters VTC-200PV kann vakuumiert werden, um die Probe unter vollständigen Vakuumbedingungen zu beschichten, was für Filmmaterialien geeignet ist, die an der Luft leicht oxidieren und sich zersetzen. Eine Klammer wird verwendet, um die Probe zu fixieren, wenn die Kammer vakuumiert wird. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.

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  • 20000 U/min Ultra-Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater

    20000 U/min Ultra-Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PAH eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Die Probe wird mittels Vakuumadsorption fixiert, sodass die Proben frei entnommen und platziert werden können. Der Motor startet schnell und stabil, wodurch die Konsistenz und Gleichmäßigkeit der Beschichtungsdicke sichergestellt werden kann.

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