• Vakuumloser Tischschleuderbeschichter

    Vakuumloser Tischschleuderbeschichter

    Der VTC-50A Spin Coater verwendet unabhängige Stromversorgungssysteme für Motorteil und Steuerteil, und das Geschwindigkeitskontrollsystem verwendet einen Single-Chip-Mikrocomputer mit hoher Anti-Interferenz zur Steuerung, sodass die Rotationsgeschwindigkeit sehr hoch und stabil im Bereich von 1000 ist -8000 U/min. Der Beschichter verfügt während des Betriebs über zwei Stufen, nämlich T1-Stufe mit niedriger Geschwindigkeit und T2-Stufe mit hoher Geschwindigkeit.

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  • Spin Coater (8.000 U/min, max. 4-Zoll-Wafer) mit 3 Vakuum-Chucks

    Spin Coater (8.000 U/min, max. 4-Zoll-Wafer) mit 3 Vakuum-Chucks

    Der Vakuum-Spincoater VTC-100 ist standardmäßig mit 3 Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe ausgestattet. Je nach Probengröße können unterschiedliche Vakuumspannfutter verwendet werden. Während des Betriebs verwendet der Vakuum-Spincoater VTC-100 die Vakuumplattenadsorptionsmethode, um die Probe auf der Probenplatte zu fixieren. Das Gerät verwendet ein zweistufiges Programm zur Steuerung der Geschwindigkeit.

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  • Kompakter Spin Coater (8.000 U/min, max. 4-Zoll-Wafer) Low Chuck Design

    Kompakter Spin Coater (8.000 U/min, max. 4-Zoll-Wafer) Low Chuck Design

    Der Vakuum-Spincoater VTC-100B ist eine verbesserte Version des Vakuum-Spincoaters VTC-100. Die obere Abdeckung lässt sich zum Öffnen und Schließen zusammenklappen und ist mit einem Sicherheitsschloss ausgestattet. Gleichzeitig verfügt er über eine Funktion zum Schutz der offenen Abdeckung, um die Sicherheit des Bedieners besser zu gewährleisten.

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  • Programmierbarer Vakuum-Chuck-Spin-Coater (500–6000 U/min, max. 20,3 cm)

    Programmierbarer Vakuum-Chuck-Spin-Coater (500–6000 U/min, max. 20,3 cm)

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-200 bietet die Vorteile einer einfachen Bedienung, einer bequemen Reinigung und einer geringen Größe. Es wird hauptsächlich im Filmzüchtungsprozess in Labors von Hochschulen und Universitäten sowie wissenschaftlichen Forschungsinstituten eingesetzt. Während des Betriebs verwendet der Vakuum-Spin-Coater VTC-200 die Vakuumplattenadsorptionsmethode, um die Probe auf der Probenplatte zu fixieren. Das Gerät verwendet ein zweistufiges Programm zur Geschwindigkeitsregelung.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und 5 Zoll max.)

    Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und 5 Zoll max.)

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PA eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Er kann für stark saure und stark alkalische Beschichtungslösungen verwendet werden. Das Gerät ist mit zwei Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe (für Standard) ausgestattet, die je nach Größe der Probe angepasst sind. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spincoater mit 100ºC Heizabdeckung

    Hochgeschwindigkeits-Spincoater mit 100ºC Heizabdeckung

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PA-I eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Er kann für stark saure und stark alkalische Beschichtungslösungen verwendet werden. Das Gerät ist mit zwei Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe (für Standard) ausgestattet, die je nach Größe der Probe angepasst sind. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spincoater mit 200ºC Heizabdeckung

    Hochgeschwindigkeits-Spincoater mit 200ºC Heizabdeckung

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-100PA-II eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Er kann für stark saure und stark alkalische Beschichtungslösungen verwendet werden. Das Gerät ist mit zwei Vakuumspannfuttern unterschiedlicher Größe (für Standard) ausgestattet, die je nach Probengröße angepasst sind. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern und jeder Satz enthält 6 Laufstufen.

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  • Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) mit UV-Abdeckung

    Hochgeschwindigkeits-Spin-Coater (10.000 U/min und max. 5 Zoll) mit UV-Abdeckung

    Der UV-Spincoater VTC-100PA-UV eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Die obere Abdeckung verwendet eine UV-Lichtquelle und eignet sich besonders für UV-empfindliche Materialien, da der beschichtete Film dadurch schnell verfestigt werden kann. Darüber hinaus verfügt die UV-Lampe auch über eine Polymerisationsfunktion, die das Monomer zu einem Polymerfilm polymerisieren kann.

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  • Korrosionsschutz-Spin-Coater (6.000 U/min und max. 6-Zoll-Wafer)

    Korrosionsschutz-Spin-Coater (6.000 U/min und max. 6-Zoll-Wafer)

    Der Vakuum-Spin-Coater VTC-200P eignet sich für Halbleiterprozesse, Kristalle, optische Datenträger, Plattenherstellung und Oberflächenbeschichtung usw. Das Gerät kann 12 Programmsätze speichern und jeder Satz enthält 6 Laufstufen. Die obere Abdeckung der Kammer kann die Probe erhitzen (optionale Funktion), was für den Beschichtungsprozess von Dünnschichtmaterialien mit hoher Viskosität von Vorteil ist.

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