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Kompakter Bandguss-Filmbeschichter mit Vakuumspannfutter 300 mm × 150 mm
Der automatische Beschichter MSK-AFA-I wird häufig in der Hochtemperatur-Beschichtungsforschung eingesetzt, z. B. bei Keramikfilmen, Kristallfilmen, Batteriematerialfilmen und speziellen Nanofilmen, und kann sich an zukünftige Entwicklungen der Filmbildungstechnologie unter Hochtemperaturbedingungen anpassen. Die Fixierung des Substrats erfolgt mittels Vakuumadsorption, so dass beim Beschichtungsprozess keine Faltenbildung auf dem Substrat auftritt und die Beschichtung noch glatter wird. Die Breite der Folie bleibt unverändert und die Foliendicke kann je nach Mikrometer über der Rakel angepasst werden.
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Kompakter Bandguss-Filmbeschichter mit Vakuumspannfutter 600 mm × 250 mm
Der automatische Beschichter MSK-AFA-II-VC wird häufig in der Forschung zu verschiedenen Hochtemperaturbeschichtungen eingesetzt, z. B. bei Keramikfilmen, Kristallfilmen, Batteriematerialfilmen und speziellen Nanofilmen. Das Substrat wird durch Vakuumadsorption fixiert, sodass während des Beschichtungsprozesses keine Faltenbildung auf dem Substrat auftritt und die Beschichtung noch glatter ist. Die Breite des Films bleibt unverändert und die Filmdicke kann entsprechend angepasst werden Mikrometer über der Rakel.
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Kompakter Bandguss-Filmbeschichter mit oberer Heizabdeckung
Der kompakte Gussbeschichter MSK-AFA-III mit automatischer Trocknungsfunktion erzielt einen gleichmäßigen und gleichmäßigen Beschichtungseffekt, indem er den Präzisionsfilmapplikator mit konstanter Geschwindigkeit vorrückt/antreibt/drückt. Nach dem Beschichten kann die obere Abdeckung den Film erwärmen und trocknen, und die Genauigkeit der Temperaturregelung beträgt ±1 °C.
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Kompakter Tape Casting Film Coater mit beheizbarem Vakuumbett
Der MSK-AFA-IIID Compact Casting Coater mit automatischer Trocknungsfunktion verfügt über eine Bodenheizung und wurde von unserem Unternehmen entworfen und entwickelt. Die Ausrüstung nutzt das Bodenvakuum, um die Proben zu absorbieren, und verfügt über eine Bodenheizungsfunktion. Die Heiztemperatur kann bis zu 120 °C erreichen und die Funktion des Filmbackens wird während des Beschichtungsprozesses realisiert, sodass der Film schnell trocknen kann.
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Kompakter Tape-Casting-Filmbeschichter mit oberer UV-Abdeckung
Der MSK-AFA-IIID-UV UV-Gussbeschichter mit automatischer Trocknungsfunktion verfügt über eine Bodenheizung und wurde von unserem Unternehmen entworfen und entwickelt. Die obere Abdeckung verfügt über eine UV-Lichtquelle und eignet sich besonders für UV-lichtempfindliche Materialien, die den beschichteten Film schnell verfestigen können. Darüber hinaus verfügt die UV-Lampe auch über eine Polymerisationsfunktion, die das Monomer zu einem Polymerfilm polymerisieren kann.
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120 °C max. Filmcoater mit beheizbarem Vakuumbett
Der MSK-AFA-IID Compact Casting Coater mit automatischer Trocknungsfunktion wird hauptsächlich zum Beschichten von flüssigen oder kolloidalen Filmen im Labor verwendet. Das Gerät nutzt das Bodenvakuum zur Aufnahme der Proben und verfügt über eine Bodenheizfunktion. Die Heiztemperatur kann bis zu 120 °C erreichen und die Funktion des Filmbackens wird während des Beschichtungsprozesses realisiert, sodass der Film schnell trocknen kann.
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Großer Tape Casting Flim Coater mit beheizbarem Vakuumbett
Der kompakte Beschichter MSK-AFA-L1000 mit automatischer Trocknungsfunktion wird hauptsächlich zum Beschichten von Flüssigkeiten oder kolloidalen Filmen im Labor verwendet. Das Gerät nutzt das Bodenvakuum zur Aufnahme der Proben und verfügt über eine Bodenheizfunktion. Die Heiztemperatur kann bis zu 120 °C erreichen und die Funktion des Filmbackens wird während des Beschichtungsprozesses realisiert, sodass der Film schnell trocknen kann.
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Hochvakuum-Plasma-verstärktes chemisches Gasphasenabscheidungssystem (PECVD)
Die kapazitive Parallelplatten-PECVD ist eine Technologie, die Plasma zur Aktivierung reaktiver Gase verwendet, um chemische Reaktionen auf der Substratoberfläche oder im oberflächennahen Raum zu fördern und Festkörperfilme zu bilden. Das Grundprinzip der plasmachemischen Gasphasenabscheidungstechnologie besteht darin, dass das Quellgas unter Einwirkung eines Hochfrequenz- oder Gleichstromfeldes ionisiert wird, um ein Plasma zu bilden, und das Niedertemperaturplasma als Energiequelle verwendet wird, wobei eine geeignete Menge an reaktivem Gas vorhanden ist eingeführt, und die Plasmaentladung wird verwendet, um das reaktive Gas zu aktivieren und eine chemische Gasphasenabscheidung zu bilden.
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Großer Bandguss-Flim-Beschichter mit einer Beschichtungsfläche von 1100 mm × 550 mm
Der automatische Beschichter MSK-AFA-L1100 wird häufig in der Hochtemperaturbeschichtungsforschung eingesetzt, z. B. bei Keramikfilmen, Kristallfilmen, Batteriematerialfilmen und speziellen Nanofilmen. Die Länge der Folie kann entsprechend der Verfahrstrecke des Rakelmessers gesteuert werden, deren Grenze bei bis zu 1025 mm liegt. Entsprechend den Kundenanforderungen können dieser Maschine entsprechende Trocknungsgeräte hinzugefügt werden, um den größeren Bedarf an Beschichtungen zu decken.
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