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Kompakter Tape Casting Film Coater mit Vakuumspannfutter 300 mm × 150 mm
Der automatische Beschichter MSK-AFA-I wird häufig in verschiedenen Bereichen der Hochtemperatur-Beschichtungsforschung eingesetzt, beispielsweise für Keramikfolien, Kristallfolien, Batteriematerialfolien und spezielle Nanofolien. Er kann an zukünftige Entwicklungen der Filmbildungstechnologie unter Hochtemperaturbedingungen angepasst werden. Das Substrat wird mittels Vakuumadsorption fixiert, sodass während des Beschichtungsprozesses keine Falten auf dem Substrat entstehen und die Beschichtung noch glatter wird. Die Breite des Films bleibt unverändert und die Filmdicke kann je nach Mikrometer über der Rakel eingestellt werden.
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Kompakter Tape Casting Film Coater mit Vakuumspannfutter 600 mm × 250 mm
Der automatische Beschichter MSK-AFA-II-VC wird häufig in verschiedenen Bereichen der Hochtemperaturbeschichtungsforschung eingesetzt, beispielsweise für Keramikfolien, Kristallfolien, Batteriematerialfolien und spezielle Nanofolien. Das Substrat wird mittels Vakuumadsorption fixiert, sodass während des Beschichtungsprozesses keine Falten auf dem Substrat entstehen und die Beschichtung noch glatter wird. Die Breite des Films bleibt unverändert und die Filmdicke kann je nach Mikrometer über der Rakel eingestellt werden.
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Kompakter Tape Casting Film Coater mit oberer Heizabdeckung
Der kompakte Gießbeschichter MSK-AFA-III mit automatischer Trocknungsfunktion erzielt einen gleichmäßigen und gleichmäßigen Beschichtungseffekt, indem er den Präzisionsfilmapplikator mit konstanter Geschwindigkeit vorschiebt/antreibt/drückt. Nach dem Beschichten kann die obere Abdeckung den Film erhitzen und trocknen, und die Temperaturregelungsgenauigkeit beträgt ±1 °C.
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Kompakter Tape Casting Film Coater mit beheizbarem Vakuumbett
Der kompakte Gussbeschichter MSK-AFA-IIID mit automatischer Trocknungsfunktion verwendet eine Bodenheizung und wurde von unserem Unternehmen entworfen und entwickelt. Das Gerät verwendet ein Bodenvakuum zum Aufsaugen der Proben und verfügt über eine Bodenheizungsfunktion. Die Heiztemperatur kann bis zu 120 °C erreichen, und während des Beschichtungsprozesses wird die Funktion des Filmbackens realisiert, sodass der Film schnell trocknen kann.
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Kompakter Tape Casting Film Coater mit oberer UV-Abdeckung
Der UV-Gusscoater MSK-AFA-IIID-UV mit automatischer Trocknungsfunktion verwendet eine Bodenheizung und wurde von unserem Unternehmen entworfen und entwickelt. Die obere Abdeckung verwendet eine UV-Lichtquelle und eignet sich besonders für UV-empfindliche Materialien, da der beschichtete Film dadurch schnell verfestigt werden kann. Darüber hinaus verfügt die UV-Lampe auch über eine Polymerisationsfunktion, mit der das Monomer zu einem Polymerfilm polymerisiert werden kann.
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120ºC Max. Filmcoater mit beheizbarem Vakuumbett
Der kompakte Gießbeschichter MSK-AFA-IID mit automatischer Trocknungsfunktion wird hauptsächlich zum Beschichten von Flüssigkeiten oder kolloidalen Filmen im Labor verwendet. Das Gerät verwendet ein Bodenvakuum zum Aufsaugen der Proben und verfügt über eine Bodenheizfunktion. Die Heiztemperatur kann bis zu 120 °C erreichen, und die Funktion des Filmbackens wird während des Beschichtungsprozesses realisiert, sodass der Film schnell trocknen kann.
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Großer Tape Casting Flim Coater mit beheizbarem Vakuumbett
Der kompakte Coater MSK-AFA-L1000 mit automatischer Trocknungsfunktion wird hauptsächlich zum Beschichten von Flüssigkeiten oder kolloidalen Filmen im Labor verwendet. Das Gerät verwendet ein Bodenvakuum zum Aufsaugen der Proben und verfügt über eine Bodenheizfunktion. Die Heiztemperatur kann bis zu 120 °C erreichen, und während des Beschichtungsprozesses wird die Filmbackfunktion realisiert, sodass der Film schnell trocknen kann.
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Plasmaunterstütztes chemisches Gasphasenabscheidungssystem (PECVD) im Hochvakuum
Parallelplatten-kapazitive PECVD ist eine Technologie, die Plasma verwendet, um reaktive Gase zu aktivieren und so chemische Reaktionen auf der Substratoberfläche oder im oberflächennahen Raum zu fördern und Festkörperfilme zu bilden. Das Grundprinzip der Plasma-Chemiedampfabscheidungstechnologie besteht darin, dass unter Einwirkung eines Hochfrequenz- oder Gleichstromfelds das Quellgas ionisiert wird, um Plasma zu bilden, und das Niedertemperaturplasma als Energiequelle verwendet wird, eine geeignete Menge reaktiven Gases eingeführt wird und die Plasmaentladung verwendet wird, um das reaktive Gas zu aktivieren und eine chemische Dampfabscheidung zu bilden.
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Großer Tape Casting Flim Coater mit einer Beschichtungsfläche von 1100 mm × 550 mm
Der automatische Beschichter MSK-AFA-L1100 wird häufig in verschiedenen Bereichen der Hochtemperatur-Beschichtungsforschung eingesetzt, beispielsweise für Keramikfolien, Kristallfolien, Batteriematerialfolien und spezielle Nanofolien. Die Länge der Folie kann je nach Bewegungsabstand der Rakel gesteuert werden, der bis zu 1025 mm beträgt. Je nach Kundenwunsch kann dieser Maschine eine entsprechende Trocknungsausrüstung hinzugefügt werden, um weitere Beschichtungsanforderungen zu erfüllen.
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