Kleine DC-Magnetron-Plasma-Sputteranlage

1. Eingangsleistung des kleinen Magnetron-Plasma-Sputtergeräts: 220 V Wechselstrom, 50/60 Hz

2. Leistung der Labor-Gleichstrom-Magnetron-Sputteranlage: <1000W

3. Ausgangsspannung der Labor-Gleichstrom-Magnetron-Sputteranlage: Gleichstrom 500 V

4. Sputterstrom: 0–80 mA, einstellbar

5. Sputterzeit: 0–120 s, einstellbar

1. Abmessungen der Quarzkammer: Außendurchmesser 166 mm × Innendurchmesser 150 mm×Höhe 150 mm

2. Dichtung: O-Ring aus Fluorkautschuk

3. Am Flanschdeckel ist ein manuell bedienbarer Verschluss zur Vorzerstäubung des Targets angebracht. Ein Kompressionsanschluss mit 6,35 mm Durchmesser dient als Lufteinlass für das Lufteinlassrohr. Ein manuelles Entlüftungsventil wird verwendet, um die Quarzkammer mit Luft zu befüllen.

4. Ein Edelstahlgewebe umgibt die gesamte Quarzkammer, um das Plasma abzuschirmen.

5. Der Zufluss des Arbeitsgases in die Kammer wird durch Einstellen des Mikropräzisions-Steuerventils auf der rechten Seite des Gehäuses geregelt, wodurch der Vakuumpegel in der Kammer angepasst wird.

6. Der Sputterstrom wird durch Einstellen des Potentiometers auf der rechten Seite des Gehäuses gesteuert.

1. Ein 2-Zoll-Magnetron-Sputterzielkopf ohne Wasserkühlung. Die maximale Betriebstemperatur des Magnetron-Sputterzielkopfes beträgt 80 Grad Celsius. Oberhalb von 80 Grad Celsius verliert der Magnetron-Sputterzielkopf seinen Magnetismus und ist nicht mehr funktionsfähig.

2. Sputterzeit: Einstellbar von 1 bis 120 Sekunden

3. Standardmäßige Kupferzielscheibe im Lieferumfang enthalten

4. Vorgabe der Zielgröße: φ2" x (0,5-5) mm Dicke

5. Geeignet zum Sputtern von Au, Ag, Cu und anderen Metallen (bei uns erhältlich).

1. Ein Probentisch mit einstellbarer Höhe und einstellbarem Abstand zwischen Probentisch und Zielobjekt von 25-70 mm.

2. Stichprobengröße: φ2"

3. Optionale Probenbühnenheizung mit einer maximalen Heiztemperatur von 500°C.

1. Messbereich: 1 × 10-4 mbar bis 1000 mbar (1 × 10-4 bis 750 Torr)

2. Genauigkeit: 1000 mbar bis 20 mbar (30 % des Messwerts)

20 bis 0,002 mbar (2 % des Messwerts)

3. Wiederholgenauigkeit: 20 bis 0,002 mbar (0,000 bis 0,002 mbar) ± 2 %)

4. Betriebsfeuchtigkeit: ≤80 % bei 30 °C, ≤50 % bei 40 °C, keine Kondensation;

5. Betriebstemperatur: 5 °C-60 °C

1. An dem Gerät ist ein Präzisions-Quarz-Vibrationsfilmdickenmessgerät installiert, das eine Echtzeitüberwachung der Filmdicke mit einer Auflösung von 0,10 Å ermöglicht.

2. Das LED-Display dient sowohl der Anzeige als auch der Eingabe von Schichtdickendaten.

1. Modell: VRD-8

2. Fördermenge: 2,2 l/s

3. Motorleistung: 370 W

4. Maximaler Druck: 5 × 10^-1Pa (unbeladen)

5. Tatsächlicher Druck: ≤ 5 Pa (mechanisches Pumpen für 20 Minuten unter kalten Bedingungen)

6. Für höhere Vakuumstufen (10^-5Es stehen inländische oder importierte Hochvakuumgeräte zur Verfügung.

Abmessungen: 500 mm × 350 mm × 550 mm (L × B × H)

Gewicht: Ungefähr 20 kg (ohne Vakuumpumpe und Wasserkühlung)

1. Um die gewünschte Filmdicke zu erreichen, sind mehrere Sputterzyklen erforderlich.

2. Vor dem Sputtern muss sichergestellt werden, dass der Sputterkopf, das Target, das Substrat und der Probentisch sauber sind.

3. Um eine gute Haftung zwischen dem Film und dem Substrat zu gewährleisten, reinigen Sie die Substratoberfläche vor dem Sputtern.

Ein Jahr Garantie und lebenslanger technischer Support.

Besondere Hinweise:

1. Verbrauchsmaterialien wie Heizelemente, Quarzrohre und Probentiegel sind nicht von der Garantie abgedeckt.

2. Schäden, die durch die Verwendung ätzender und saurer Gase verursacht werden, sind von der Garantie nicht abgedeckt.

• Der Druck im Inneren der Kammer darf 0,02 MPa (relativer Druck) nicht überschreiten.

Da der Innendruck der Gasflasche relativ hoch ist, muss beim Einleiten von Gas in das Quarzrohr ein Druckminderventil an der Flasche installiert werden. Um die Sicherheit zu gewährleisten, empfehlen wir einen Betriebsdruck unter 0,02 MPa. Für höhere Genauigkeit und Sicherheit empfehlen wir den Kauf eines Druckminderventils unseres Unternehmens mit einem Messbereich von 0,01 MPa bis 0,1 MPa.

Wir raten von der Verwendung brennbarer, explosiver oder giftiger Gase ab. Sollte Ihr Prozess die Verwendung solcher Gase erfordern, treffen Sie bitte geeignete Schutz- und Explosionsschutzmaßnahmen. Unser Unternehmen übernimmt keine Haftung für Schäden, die durch die Verwendung brennbarer, explosiver oder giftiger Gase entstehen.