Anwendung von Spin Coatern im Halbleiter-Fotolithografieprozess

Entschleimung: Mit dem Sprüh-Spincoater VTC-200-4P wird im Nass-Entschleimungsverfahren organisches Lösungsmittel auf den Fotolackfilm auf der Musteroberfläche getropft. Dadurch löst sich der Fotolackfilm auf und entfernt ihn. Zurück bleibt ein sauberes Muster. Zur Beschichtung stehen folgende Beschichtungsanlagen zur Verfügung: VTC-100PA Vakuum-Spincoater, VTC-100PA-II Vakuum-Spincoater mit oberer Heizabdeckung, VTC-100 Vakuum-Spincoater, VTC-200 Vakuum-Spincoater, VTC-200PV Vakuum-Rotationsbeschichtungsanlage, VTC-200-4P Sprüh-Rotationsbeschichtungsanlage und VTC-100PA-UV Ultraviolett-Spincoater. Je nach Verfahren können unterschiedliche Spincoater verwendet werden.

2025/06/16

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