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Einführung der Vakuum-Laborheizplatte
Bei der täglichen Arbeit in Materiallaboren stehen wir oft vor einem kniffligen Dilemma: Wir müssen ultradünne Proben (wie Kristalle, Halbleiterwafer und Brennstoffzellensubstrate) in einer Hochtemperaturumgebung (300℃-500℃) wärmebehandeln oder beschichten, aber herkömmliche mechanische Fixierungsmethoden können leicht zu Spannungsschäden führen.
2026/01/30
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