Einführung der Vakuum-Laborheizplatte

Bei der täglichen Arbeit in Materiallaboren stehen wir oft vor einem kniffligen Dilemma: Wir müssen ultradünne Proben (wie Kristalle, Halbleiterwafer und Brennstoffzellensubstrate) in einer Hochtemperaturumgebung (300℃-500℃) wärmebehandeln oder beschichten, aber herkömmliche mechanische Fixierungsmethoden können leicht zu Spannungsschäden führen.

Um diese experimentelle Herausforderung zu bewältigen, hat unser Team speziell das HP-500V-Vakuumgerät entwickelt.Heizplatte im LaborHeute möchten wir aus technischer Sicht erörtern, wie dieses Gerät ein Gleichgewicht zwischen Hochvakuum-Adsorption und gleichmäßiger Hochtemperaturerwärmung erreicht.

I. Kernmaterial: Warum bestehen wir auf der Verwendung von Messingguss?

VieleHeizplatten im LaborAuf dem Markt werden meist Aluminiumlegierungen oder Keramik verwendet, beim HP-500V haben wir die maximale Temperatur jedoch auf 500 °C festgelegt. In diesem Temperaturbereich neigt gewöhnliches Aluminium zum Kriechen, während Keramik zwar hochtemperaturbeständig ist, aber hinsichtlich der Wärmeverteilung etwas schlechter abschneidet.

Als Kernmaterial für die Heizplatte wählten wir gegossenes Messing.

• Verformungsbeständigkeit: Gussmessing behält seine ausgezeichnete mechanische Festigkeit bei 500℃ bei und sorgt in Kombination mit einer zweilagigen Wärmeableitungsstruktur dafür, dass sich die Oberfläche auch bei langfristigem Hochtemperaturbetrieb nicht verzieht.

• Gleichmäßige Wärmeübertragung: Die hohe Wärmeleitfähigkeit von Kupfer ermöglicht eine schnelle Wärmeübertragung vom Heizelement auf die gesamte Oberfläche. Für chemische Analysen und physikalische Messungen bedeutet dies, dass die Temperaturdifferenz zwischen Mittelpunkt und Randpunkt durch die physikalischen Eigenschaften minimiert wird.

II. Vakuumadsorption:

Das größte Merkmal des HP-500VHeizplatte im Labor Es handelt sich um präzise Adsorptionsmikroporen, die innerhalb der 350 mm × 240 mm großen effektiven Heizfläche angeordnet sind.

Funktionsprinzip: DasHeizplatte im Labor Erfordert eine externe Vakuumpumpe (empfohlene Förderleistung ≥70 l/min). Durch die Unterdruckkammer am Boden wird eine starke Adsorptionskraft auf der Oberfläche der Heizplatte erzeugt.

Anwendungsszenarien: Dies ist besonders wichtig für das Pyrolyse-Sprühen und die Substratbeschichtung von Brennstoffzellen. Es sorgt für eine feste Adsorption der Dünnschichtprobe an der Oberfläche, wodurch das Problem der Probenfixierung gelöst wird. Da die Probe in engem Kontakt mit der Kupferplatte steht, wird die Wärmeübertragungseffizienz deutlich verbessert und durch Luftspalte verursachte Temperaturfehler werden eliminiert.

III. Leistungsstarke Hardware und die passende Software. Dieses Gerät ist nicht nur eine Heizplatte, sondern ein präzises Temperaturregelungssystem.

PID-Temperaturregelung mit künstlicher Intelligenz: Wir verwenden einen KI-gestützten PID-Algorithmus, der eine stabile Temperaturgenauigkeit von ±1 °C gewährleistet. Während des Aufheizvorgangs unterdrückt das System automatisch Überschwingen; im Konstanttemperaturbereich reagiert es schnell auf geringfügige Schwankungen der Umgebungstemperatur.

Leistungskonfiguration: Die 3500-W-Hochleistungskonstruktion gewährleistet eine schnelle Aufheizrate und reduziert die Wartezeit während der Experimente.

IV. Installations- und Nutzungshinweise aus der Sicht eines Ingenieurs.

Als technisches Personal des Herstellers möchten wir Ihnen, basierend auf unseren Erfahrungen bei der Fehlersuche, einige Vorschläge zur effektiven Nutzung dieses Geräts unterbreiten:

Bezüglich der Umgebungsluftströmung (sehr wichtig):

Obwohl das Gerät eine hohe Leistung besitzt, vermeiden Sie es bitte unbedingt, es in der Nähe von Klimaanlagenlüftungen, im direkten Luftstrom eines Ventilators oder in einem Abzug mit starker Luftströmung aufzustellen. Experimentelle Daten zeigen, dass starke konvektive Luftströmungen die Temperaturverteilung auf der Heizplattenoberfläche erheblich beeinträchtigen und dadurch die Randtemperatur aufgrund des sogenannten Windkühlungseffekts senken.

Stromversorgungsumgebung:

DerHeizplatte im Labor Das Gerät hat einen Nennstrom von ca. 16 A (basierend auf 220 V/3500 W), jedoch kann es beim Anlauf zu einem Einschaltstromstoß kommen. Die Installationsanforderungen schreiben eindeutig ein einphasiges Wechselstromnetzteil mit 220 V, 50 Hz und 25 A vor, das ordnungsgemäß geerdet sein muss. Bitte überprüfen Sie die Elektroinstallation in Ihrem Labor und verwenden Sie keine minderwertigen Steckdosenleisten.

Vorheizübung:

Obwohl die Probe aus Gusskupfer besteht, empfiehlt es sich, vor der Durchführung hochpräziser Experimente die eingestellte Temperatur nach Erreichen 10–15 Minuten lang zu halten. Dadurch kann sich die Wärme in der gesamten Kupferplatte gleichmäßig verteilen. Die Platzierung der Probe zu diesem Zeitpunkt gewährleistet die beste Reproduzierbarkeit der Messdaten.

BeiShenyang Kejingvor dem HP-500VHeizplatte im Labor Sobald das Werk das Haus verlässt, führen wir strenge Isolationsprüfungen, Erdungsprüfungen und Vakuumdichtigkeitsprüfungen durch.

Diese scheinbar einfache Heizplatte aus Messing verkörpert unser Verständnis von Materialbearbeitungstechnologie. Ob Sie Perowskit trocknen oder Metalle wärmebehandeln – wir hoffen, dass die HP-500V Ihnen dabei helfen wird.Heizplatte im Labor wird zu Ihrem robustesten, stabilsten und effizientesten Partner an Ihrem Labortisch werden.