Innenseite

Magnetron-Sputter-Beschichter mit drei Zielen zum Beschichten von Substraten und Wafern

1. Das Dünnschichtbatterie-Vorbereitungssystem mit Handschuhkasten ist mit drei Zielpistolen ausgestattet, und über einen Umrüstschalter kann an jeden Zielkopf eine passende HF-Stromversorgung angeschlossen werden, die zum Sputtern der Beschichtung verschiedener Zielmaterialien verwendet wird (die Zielpistole kann je nach Kundenbedarf jederzeit ausgetauscht werden).
2. Das Dünnschichtbatterie-Vorbereitungssystem mit Handschuhbox kann eine Vielzahl von Dünnschichten vorbereiten und wird häufig verwendet.
3. Das Dünnschichtbatterie-Vorbereitungssystem mit Handschuhfach ist klein und sehr einfach zu bedienen.

  • Shenyang Kejing
  • Shenyang, China
  • 10 Arbeitstage
  • 50 Sätze
  • Information

Einführung des kompakten Plasma-Sputter-Beschichters:

Das VGB-600-3HD-Dünnschichtbatterie-Vorbereitungssystem mit Handschuhkasten kann für experimentelle Vorgänge im Handschuhkasten verwendet werden und wird zur Vorbereitung von ein- oder mehrschichtigen ferroelektrischen Dünnschichten, leitfähigen Dünnschichten, Legierungsdünnschichten, Halbleiterdünnschichten, keramischen Dünnschichten, dielektrischen Dünnschichten, optischen Dünnschichten, Oxiddünnschichten, harten Dünnschichten, Polytetrafluorethylen-Dünnschichten usw. verwendet. Der kompakte Plasma-Sputter-Beschichter ist mit drei Zielkanonen ausgestattet, und eine passende HF-Stromversorgung kann über einen Umrüstschalter an jeden Zielkopf angeschlossen werden, der zum Sputtern verschiedener Zielmaterialien verwendet wird. Im Vergleich zu ähnlichen Geräten wird der kompakte Plasma-Sputter-Beschichter nicht nur häufig verwendet, sondern hat auch die Vorteile einer geringen Größe und einfachen Bedienung. Er ist ein ideales Gerät für die Laborvorbereitung von Materialfilmen. Der kompakte Plasma-Sputter-Beschichter eignet sich besonders für die Laborforschung an Dünnschichtbatterien, Festelektrolyten und OLEDs. Im Vergleich zum gewöhnlichen Magnetronsputtern kann er für Beschichtungsexperimente an Li-Zielen und Zielen aus lithiumbasierten Materialien verwendet werden. Es handelt sich um die ideale Ausrüstung für Laborbeschichtungsexperimente in der erneuerbaren Energiebranche.

Compact plasma sputtering coater


Vorteile des RF-Magnetron-Sputtercoaters mit drei Zielen:

1. Der RF-Magnetron-Sputtercoater mit drei Zielen verfügt über ein modulares Design und die Vakuumkammer, die Vakuumpumpengruppe und die Steuerstromversorgung sind aufgeteilt und können entsprechend den tatsächlichen Bedürfnissen der Benutzer angepasst werden.

2. Der RF-Magnetron-Sputtercoater mit drei Zielen kann die Stromversorgung entsprechend den tatsächlichen Anforderungen der Benutzer auswählen. Eine Stromversorgung kann mehrere Zielpistolen steuern, oder mehrere Stromversorgungen können eine einzelne Zielpistole steuern (optional).

3. Für den Versuchsbetrieb in der Handschuhbox kann ein RF-Magnetron-Sputtercoater mit drei Zielen verwendet werden, und für Beschichtungsexperimente können verschiedene Arten leicht oxidierender Zielmaterialien ausgetauscht werden.


Technische Parameter des kompakten Plasma-Sputter-Beschichters:

ProduktnameVGB-600-3HD Kompakter Plasma-Sputter-Beschichter
ProduktmodellVGB-600-3HD
Hauptparameter

Magnetron-Sputterteil mit drei Zielen:

1. Versorgungsspannung: 220 V, 50 Hz.

2. Gesamtleistung: 2,5 kW.

3. Endvakuum: < E-6 mbar (kann bei Verwendung der mechanischen Pumpausrüstung unseres Unternehmens E-3 mbar erreichen).

4. Arbeitstemperatur: RT-500 °C, Genauigkeit ±1 °C (die Temperatur kann je nach Bedarf erhöht werden).

5. Anzahl der Zielkanonen: 3.

6. Kühlmethode der Zielwaffe: Wasserkühlung.

7. Zielgröße: Ø2″, Dicke 0,1–5 mm (Dicke variiert aufgrund unterschiedlicher Zielmaterialien).

8. Sputterleistung: 300 W (RF)/500 W (DC).

9. Probenträger: Ø140mm.

10. Geschwindigkeit des Probenträgers: einstellbar im Bereich von 1 bis 20 U/min.

11. Schutzgas: Inertgas wie Ar und N2.

12. Einlassgaspfad: Der Massendurchflussmesser steuert zwei Einlasspfade, ein Durchfluss beträgt 100 SCCM und der andere Durchfluss beträgt 200 SCCM.

GLiebesbox-Teil:

1. Stromversorgung: einphasig AC110V-220V 50Hz/60Hz.

2. Schalenmaterial: Edelstahl 304.

3. Handschuhfachkammer: 1220 mm × 760 mm × 900 mm.

4. Vorstufenkammer: Es gibt zwei Vorstufenkammern, die große Vorstufenkammer hat die Maße Ø360 mm × 600 mm und die kleine Vorstufenkammer hat die Maße Ø150 mm × 300 mm.

5. Kammerumgebung: Wassergehalt <1 ppm (20 °C, 1 atm), Sauerstoffgehalt <1 ppm (20 °C, 1 atm).

6. Arbeitsgas: Inertgas wie N2, Ar, He.

7. Steuergas: Druckluft oder Inertgas.

8. Reduktionsgas: eine Mischung aus Arbeitsgas und H2 (wenn das Reinigungssystem nur die Funktion hat, Wasser zu entfernen, ist das Reduktionsgas dasselbe wie das Arbeitsgas).

9. Gasreinigungssystem: Desoxidationsmaterialien der deutschen BASF, wasserabsorbierende Materialien der amerikanischen UOP, automatische Steuerung des Regenerationsprozesses des Reinigungssystems, automatische Entwässerungs- und Desoxidationsfunktionen, die die Gasreinheit bei Wasser <1 ppm und Sauerstoff <1 ppm für lange Zeit aufrechterhalten können.

10. Druckkontrollsystem: Der Hohlraumluftdruck kann automatisch über den PLC-Touchscreen mit einer Regelgenauigkeit von ±1 Pa gesteuert werden und kann auch manuell über den Fußschalter gesteuert werden.

11. Filtersystem: An den Einlass- und Auslassenden sind Filter mit einer Filtergenauigkeit von 0,3 μm installiert.

12. Steuerungssystem: SIEMENS-Farb-Touchscreen (6 Zoll), SPS-Steuerungssystem, zweisprachig umschaltbar zwischen Chinesisch und Englisch;

Wassersonde der amerikanischen Marke GE, 0–1000 ppm Touchscreen-Anzeige, Genauigkeit 0,1 ppm;

Sauerstofftransmitter der amerikanischen Marke AII, 0–1000 ppm Touchscreen-Anzeige, Genauigkeit 0,1 ppm;

Drucksensor der amerikanischen Marke Setra, -2500–2500 Pa Touchscreen-Anzeige, Genauigkeit ±1 Pa;

13. Vakuumpumpe: Britische Marke EDWARDS, Pumpgeschwindigkeit 8,4 m3/h – 12 m3/h.

14. Handschuhe: Butyl-Synthesekautschuk der amerikanischen Marke NORTH.

15. Beleuchtungssystem: Leuchtstoffröhre der Marke Philips.

Produktdetails

Magnetron-Sputterteil mit drei Zielen: 950 mm × 460 mm × 810 mm.

Handschuhfachteil: 2300 mm × 1500 mm × 1900 mm.


Qualitätsversprechen mit drei Zielen für RF-Magnetron-Sputter-Beschichter:

Unser Unternehmen garantiert, dass der gelieferte kompakte Plasmasputter-Beschichter neu und unbenutzt ist, die im Vertrag festgelegten Qualitäts-, Spezifikations- und Leistungsanforderungen vollständig erfüllt und dass unser Dünnschichtbatterie-Vorbereitungssystem mit Handschuhfach bei korrekter Installation, korrekter Verwendung und Wartung und innerhalb der Lebensdauer normal funktionieren kann.


Garantie:

Einjährige beschränkte Garantie, lebenslanger Support (ausgenommen Teile, die aufgrund unsachgemäßer Lagerbedingungen verrostet sind)


Unsere Leistungen:

Unsere Produkte werden von vielen Kunden für ihre hervorragende Leistung, stabile Qualität und Langlebigkeit geschätzt. Wir verfügen über ein professionelles technisches Team, das Kunden eine umfassende Serviceunterstützung wie Produktauswahl, Installation und Inbetriebnahme sowie Bedienschulungen bieten kann. Unabhängig davon, auf welche Probleme Sie während des Gebrauchs stoßen, bemühen wir uns, Ihnen zeitnahe und wirksame Lösungen bereitzustellen, damit Ihre Produktionslinie effizient und stabil läuft.

Three targets RF magnetron sputtering coater


Über uns:

Vor nicht allzu langer Zeit nahm unser Bezirk Singapur an der Asia Photonics Expo (APE 2025) teil, wo wir unsere Schleif- und Poliermaschinen, Beschichtungsmaschinen und andere Produkte präsentierten. Nachdem sie die Produkte im Detail kennengelernt hatten, lobten viele Kunden unsere Geräte und äußerten den Wunsch, mit uns zusammenzuarbeiten.

Thin film battery preparation system with glove box

Compact plasma sputtering coater

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