Drei-Ziel-Magnetron-Sputtergerät
1. Die Beschichtungsanlage mit drei Zielen zeichnet sich durch hohe Präzision, geringe Ergebnisfehler und mehr Sicherheit bei der Verwendung aus.
2. Die Drei-Ziel-Beschichtungsanlage ist einfach zu bedienen und verkürzt die Lernzeit.
3. Die Drei-Ziel-Beschichtungsanlage ist für eine Vielzahl von Materialien geeignet, wodurch der Verbrauch mehrerer Anlagen reduziert wird.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 10 Arbeitstage
- 50 Sätze
- Information
Einführung einer Drei-Ziel-Vakuumbeschichtungsanlage:
Die Drei-Target-Vakuumbeschichtungsanlage VTC-600-3HD-1000 ist eine von unserem Unternehmen neu entwickelte Hochvakuum-Beschichtungsanlage. Sie eignet sich zur Herstellung von ein- und mehrschichtigen ferroelektrischen, leitfähigen, Legierungs-, Halbleiter-, Keramik-, dielektrischen, optischen, Oxid-, Hart- und Polytetrafluorethylen-Filmen. Die VTC-600-3HD-1000 Drei-Target-Vakuumbeschichtungsanlage ist mit drei Targetkanonen und drei Stromversorgungen ausgestattet: Eine HF-Stromversorgung dient zum Sputtern nichtleitender Materialien, eine Gleichstromversorgung zum Sputtern leitfähiger Materialien und ein starkes magnetisches Target zum Sputtern ferromagnetischer Materialien. Im Vergleich zu ähnlichen Geräten ist die Drei-Target-Vakuumbeschichtungsanlage kompakt und einfach zu bedienen. Sie eignet sich für eine Vielzahl von Materialien. Sie ist ideal für die Herstellung unterschiedlicher Materialfilme im Labor.
Hauptmerkmale des Hochvakuum-Dreifach-Target-Sputtercoaters:
1. Der Hochvakuum-Dreifach-Target-Sputtercoater ist mit drei Target-Kanonen ausgestattet, zwei passende HF-Stromversorgungen werden zum Sputtern der Beschichtung nichtleitender Target-Materialien verwendet und eine passende Gleichstromversorgung wird zum Sputtern der Beschichtung leitender Materialien verwendet.
2. Mit dem Hochvakuum-Dreifach-Target-Sputtercoater können zahlreiche Dünnfilme hergestellt werden, und er wird häufig eingesetzt.
3. Der Hochvakuum-Sputtercoater mit drei Zielen ist klein und einfach zu bedienen.
Technische Parameter der Drei-Ziel-Beschichtungsanlage:
| Produktname | VTC-600-3HD-1000 Magnetron-Sputtergerät mit zwei Zielen |
Produktmodell | VTC-600-3HD-1000 |
Hauptparameter | 1. Eingangsleistung: 220 V/50 Hz. 2. Anzahl der Sputtertargets: 3. 3. Innendurchmesser der Kammer: Ø300mm. 4. Kühlmethode der Zielkanone: Wasserkühlung. 5. Endvakuumgrad: 7,4E-5pa. 6. Vakuumkammerspezifikationen: Φ300×330 mm. 7. Vakuumsystem: Mechanische Pumpe VRD-16, Turbomolekularpumpe FF-100/150. 8. Vakuum wiederherstellen: Das System wird von der Atmosphäre auf 5,0E-3pa≤30 min gepumpt (das System wird für kurze Zeit der Atmosphäre ausgesetzt). 9. Aufblassystem: 2-Wege-Massendurchflussmesser (1-Wege-Argon 100 scc, 1-Wege-Argon 200 scc). Spezialgas kann individuell angepasst werden. 10. Sputtertarget-Spezifikationen: Φ2", Dicke 0,1–5 mm (die Dicke variiert aufgrund unterschiedlicher Targetmaterialien). 11. Probentisch: Φ70mm//beheizbar (Raumtemperatur ~ 1000℃). |
Produktspezifikationen | Hostgröße: Breite 900 mm × Tiefe 650 mm × Höhe 1100 mm |
Garantie:
Ein Jahr eingeschränkt mit lebenslangem Support (ausgenommen verrostete Teile aufgrund unzureichender Lagerbedingungen).
Logistik
Über uns:
Unser Unternehmen ist seit vielen Jahren in der Filmproduktion tätig und verfügt über umfassende Erfahrung. Darüber hinaus verfügt unser Unternehmen über eine Vielzahl von Geräten für unterschiedliche Materialien, um Ihren unterschiedlichen Anforderungen gerecht zu werden. Wir unterstützen Sie gerne beim Testen der Geräte. Sie können uns Muster zur Verfügung stellen, die wir für Sie vorbereiten, damit Sie die Wirkung unserer Produkte besser verstehen. Wenn Sie mit unseren Produkten zufrieden sind, können Sie sie kaufen und Ihre Arbeit reibungsloser gestalten.
