Magnetron-Sputterbeschichtungsanlage
1. Eine Vakuum-Magnetron-Sputteranlage kann eine Sputter-Vakuumkammer mit großer Kapazität und ein entsprechendes Flächen-Sputtertarget verwenden, um unter Berücksichtigung der Gasionisationseigenschaften im elektrischen Feld eine gleichmäßigere und reinere Sputterbeschichtung zu erzielen.
2. Der Sputterkopf der Vakuum-Magnetron-Sputteranlage nutzt die Peltier-Kühltechnologie, um Hochleistungsbeschichtungen mit feinen Partikeln zu erzielen.
3. Die Vakuum-Magnetron-Sputteranlage kann einen wassergekühlten Sputterkopf und einen wassergekühlten Tisch verwenden.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, Liaoning
- 10 Werktage
- 50 Sets
- Information
Einführung von Magnetron-Sputterbeschichtungsanlagen mit Wasserkühler:
Die Magnetron-Sputteranlage GSL-1100X-SPC-16M mit Wasserkühlung nutzt den Sputtereffekt, der durch den Beschuss des Targets mit Teilchen im Vakuum entsteht. Dabei werden Atome oder Moleküle von der festen Oberfläche abgetragen und auf dem Substrat abgeschieden, um einen Dünnfilm zu bilden. Es handelt sich um eine Form der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD). Die Anlage ist einfach, zuverlässig und wirtschaftlich konstruiert und eignet sich für die Herstellung verschiedener Kompositfilmproben im Labor sowie für die Produktion von experimentellen Elektroden aus nichtleitenden Materialien. Magnetron-Sputteranlagen mit Wasserkühlung können im Labor zur Präparation von Proben für Rasterelektronenmikroskope eingesetzt werden. Sie sind kompakt und platzsparend im Labor und einfach zu bedienen, sodass sie sich auch für Einsteiger eignen.
Vorteile der PVD-Sputterbeschichtung:
1. Ausgestattet mit einemVakuummeterund einSputterstrommesserDas System ermöglicht die Echtzeitüberwachung der Betriebsbedingungen.
2. Durch Anpassen derSputterstromreglerUndMikro-VakuumventilDer Benutzer kann den Kammerdruck und den Ionisationsstrom steuern sowie das gewünschte Ionisationsgas auswählen, um optimale Bedingungen für die Filmbeschichtung zu erreichen.
3. DieGummidichtungsringDer Rand der Glasglocke ist speziell so konstruiert, dass ein Absplittern des Glases auch nach langjährigem Gebrauch verhindert wird.
4. DieKeramikversiegelter Hochspannungselektrodenanschlussbietet eine höhere Haltbarkeit als herkömmliche Gummidichtungen.
5. Basierend auf den Ionisationseigenschaften von Gasen in einem elektrischen Feld nutzt das System einegroßvolumige Sputterkammerund einZiel mit einem geeigneten Bereichwodurch eine gleichmäßigere und reinere Sputterbeschichtung gewährleistet wird.
6. Diestotternder KopfadoptiertPeltier-KühltechnologieDadurch werden Hochleistungsbeschichtungen mit feinkörnigen Strukturen ermöglicht.
7. Beidewassergekühlte SputterköpfeUndwassergekühlte Probenhaltersind verfügbar.
Technische Parameter der PVD-Sputteranlage:
| Produktname | GSL-1100X-SPC-16M PVD-Sputterbeschichtungsanlage | |
| Produktmodell | GSL-1100X-SPC-16M | |
| Installationsbedingungen | Dieses Gerät muss bei einer Temperatur von 25℃±15℃ und einer relativen Luftfeuchtigkeit von 55%Rh±10%Rh betrieben werden. 1. Wasser: Das Gerät muss mit einer selbstzirkulierenden Kühlwasseranlage (gefüllt mit reinem Wasser oder deionisiertem Wasser) ausgestattet sein. 2. Stromversorgung: Wechselstrom 220 V, 50 Hz, muss ordnungsgemäß geerdet sein. 3. Gas: Die Gerätekammer muss mit Argon (Reinheit über 99,99 %) gefüllt werden, und eine Argon-Gasflasche (mit Druckminderungsventil) muss bereitgehalten werden. 4. Werkbank: Größe 600 mm × 600 mm × 700 mm, Tragfähigkeit über 50 kg. 5. Belüftungsgerät: nicht erforderlich. | |
| Hauptparameter | 1. Ziel: Ø50mm. 2. Vakuumkammer: Ø160mm×120mm. 3. Vakuumgrad: ≤4×10-2mbar. 4. Maximalstrom: 100 mA. 5. Einstellbare Zeitbegrenzung: 9999s. 6. Mikro-Vakuum-Luftventil: Anschluss an einen Ø3mm Schlauch. 7. Grenzspannung: 1600 V DC. 8. Mechanische Pumpe: 2 l/s. 9. Zielmaterial: • Größenanforderung: φ50mm×(0,1-0,5)mm (Dicke). • Geeignet zum Sputtern von Au, Ag, Cu und anderen Metallen (erhältlich in unserem Unternehmen). | |
10. Produktspezifikationen: • Größe: 360 mm × 300 mm × 380 mm. · Gewicht: • Gesamtgewicht: 50 kg. • Nettogewicht der Hauptmaschine: 15 kg. |
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Standardzubehör für PVD-Sputterbeschichtungsanlagen:
| NEIN. | Name | Menge | Bild |
| 1 | Gold-Sputtering-Ziel | 1 Stück | -- |
| 2 | Einlassnadelventil | 1 Stück | -- |
| 3 | Sicherung | 2-teilig | -- |
Optionales Zubehör für PVD-Sputterbeschichtungsanlagen:
| NEIN. | Name | Funktion | Bild |
| 1 | Verschiedene Sputtertargets wie Gold, Indium, Silber, Platin usw. | (Optional) | -- |
Über uns:
Wir legen nicht nur größten Wert auf Produktqualität, sondern auch auf jedes Detail bei Logistik und Verpackung. Der Transport von Präzisionsinstrumenten ist von entscheidender Bedeutung. Beschädigungen können die Produktion unserer Kunden erheblich beeinträchtigen. Unser Verpackungsteam ist bestens geschult und beherrscht die spezielle Verpackung von Präzisionsinstrumenten. Um Ihnen eine schnelle Lieferung zu ermöglichen, haben wir ein umfassendes Logistiksystem aufgebaut und arbeiten mit weltweit renommierten Logistikunternehmen zusammen.
