Hochvakuum-Magnetron-Sputtergerät

Einführung der Magnetron-Sputter-Ausrüstung:

Der Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichter VTC-600G ist eine neu entwickelte Beschichtungsanlage zur Herstellung von ein- und mehrschichtigen ferroelektrischen, leitfähigen, Legierungs-, Halbleiter-, Keramik-, dielektrischen, optischen, Oxid-, Hart- und Polytetrafluorethylen-Filmen. Die Magnetron-Sputter-Anlage VTC-600G kann mit mehreren Target-Kanonen ausgestattet werden. Die passende HF-Stromversorgung dient zum Sputtern nichtleitender Targetmaterialien, die passende Gleichstromversorgung zum Sputtern leitfähiger Materialien. Im Vergleich zu ähnlichen Geräten ist die Magnetron-Sputter-Anlage nicht nur weit verbreitet, sondern auch kompakt und einfach zu bedienen. Sie eignet sich ideal zur Herstellung von Materialfilmen im Labor und ist besonders für die Laborforschung zu Festelektrolyten und OLEDs geeignet.

Hauptmerkmale der Magnetron-Sputter-Anlage:

· Das Vakuum-Magnetron-Sputtergerät kann mit mehreren Targetkanonen ausgestattet werden. Die passende HF-Stromversorgung wird zum Sputtern von nichtleitenden Targetmaterialien verwendet, und die passende Gleichstromversorgung wird zum Sputtern von leitfähigen Materialien verwendet (die Targetkanone kann je nach Kundenwunsch nach Belieben ausgetauscht werden).

· Mit einem Vakuum-Magnetron-Sputtergerät können zahlreiche Dünnschichten hergestellt werden, und es wird häufig eingesetzt.

· Das Vakuum-Magnetron-Sputtergerät ist klein und einfach zu bedienen.

· Die gesamte Maschine ist modular aufgebaut und die Vakuumkammer, die Vakuumpumpengruppe und die Steuerstromversorgung sind geteilte Designs, die an die tatsächlichen Bedürfnisse der Benutzer angepasst werden können.

· Die Stromversorgung kann entsprechend den tatsächlichen Anforderungen des Benutzers ausgewählt werden. Eine Stromversorgung kann mehrere Zielpistolen steuern, oder mehrere Stromversorgungen können eine einzelne Zielpistole steuern.

Technische Parameter des Vakuum-Magnetron-Sputtergeräts:

Produktname	VTC-600G Hochvakuum-Magnetron-Sputtergerät
Produktmodell	VTC-600G
Hauptparameter	1. Struktur: Desktop-Vordertürstruktur, hinteres Auspuffsystem.
	2. Endvakuum: 6,0 x 10-5 Pa.
	3. Leckrate: 1h ≤ 0,5 Pa.
	4. Die Abgaszeit von der Atmosphäre auf 5,0 x 10-3 beträgt etwa 20 Minuten.
	5. Vakuumpumpengruppe: mechanische Pumpe + Molekularpumpe.
	6. Probentisch: φ140, Raumtemperatur -500 °C, Genauigkeit ±1 °C (Temperatur kann je nach Bedarf erhöht werden), Rotation einstellbar zwischen 5 und 20 U/min. Die Bias-Funktion kann je nach Kundenwunsch hinzugefügt werden, um eine höhere Beschichtungsqualität zu erzielen.
	7. Gasfüllsystem: 2 Massendurchflussmesser (je Argon/Stickstoff).
	8. Der Winkel zwischen dem Zielkopf und der Mittelachse des Probentisches beträgt 34°.
	9. Anzahl der Zielköpfe: 3 (120° zueinander).
	10. Kühlmethode der Zielwaffe: Wasserkühlung.
	11. Zielmaterialgröße: φ2″, Dicke 0,1–5 mm (Dicke variiert aufgrund unterschiedlicher Zielmaterialien).
	12. Produktspezifikationen: · Abmessungen: Komplette Maschinengröße: 700 mm × 852 mm × 1529 mm;

Optionales Zubehör der Magnetron-Sputteranlage:

Garantie:

Ein Jahr eingeschränkter Support mit lebenslanger Garantie (ausgenommen verrostete Teile aufgrund unzureichender Lagerbedingungen)

Logistik:

Über uns:

Wir sind ein Hightech-Unternehmen mit Fokus auf Forschung, Entwicklung und Produktion von Beschichtungsanlagen und führend in der Branche. Jedes unserer Produkte wurde sorgfältig von unseren Designern entwickelt und streng geprüft und zeichnet sich durch hohe Leistung und Genauigkeit aus. Wir konzentrieren uns nicht nur auf das Produkt selbst, sondern legen auch Wert auf technologische Innovation und Kundenbeziehungen und sind bestrebt, unseren Kunden weltweit hochwertige experimentelle Instrumente anzubieten.