Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichter

Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichter

1. Das Endvakuum des Sputtercoaters mit Einzelkopf kann 8,0 x 10-5 Pa erreichen.
2. Der Sputtercoater mit Einzelkopf ist mit 1 Verdampfungsheizschiffchen, 2 Strahlquellenofenstationen (1 Strahlquellenofen ist Standard), 1 Satz Durchflussmesser (ein Satz Argongas) mit φ150-Glasbeobachtungsfenster ausgestattet.
3. Nachdem Sie den Sputtercoater mit Einzelkopf erhalten haben, bieten wir Ihnen auch umfassende Kundendienstleistungen, wie beispielsweise eine Fernanleitung.

marke: Shenyang Kejing
Die HERKUNFT der Produkte: Shenyang, China
Die lieferzeit: 10 Arbeitstage
Die fähigkeit,: 50 Sätze

Information

Einführung des Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichters:

Der Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Coater VTC-1HD-ZF2 ist eine multifunktionale Hochvakuum-Beschichtungsanlage mit einem Magnetron-Sputter-Gerät für Einzeltargets. Mit dem Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Coater können ein- oder mehrschichtige ferroelektrische Filme, leitfähige Filme, Legierungsfilme, Halbleiterfilme, Keramikfilme, dielektrische Filme, optische Filme, Oxidfilme, Hartfilme, Polytetrafluorethylenfilme usw. hergestellt werden.

High vacuum magnetron sputtering coater

Vorteile des Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichters:

1. Der Magnetron-Plasma-Sputter-Coater ist mit einem Heizschiffchen für die Dampfabscheidung ausgestattet, das sich besonders für die Dampfabscheidung sauerstoffempfindlicher Metallfilme (wie Ti, Al, Au usw.) eignet. Über dem Heizschiffchen des Magnetron-Plasma-Sputter-Coaters befindet sich eine drehbare Blende, zwei Strahlquellenofenstationen (ein Strahlquellenofen ist Standard). 1 Satz Durchflussmesser (ein Satz Argongas) mit φ150-Glas-Beobachtungsfenster.

2. Anwendungsbereich des Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichters: Gerätevorbereitung von Perowskit-Materialien, zweidimensionalen Materialien, Photovoltaik-Solarzellen usw.

3.3. Sputter-Coater mit Einzelkopf-Stromversorgung: AC 220 V/50 Hz. Leistung <3,5 kW.

Technische Parameter des Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichters:

Produktname	VTC-1HD-ZF2 Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichter
Produktmodell	VTC-1HD-ZF2
Hauptparameter	1. Vakuumkammer: φ324×330 Ultimatives Vakuum 8.0×10^-5Pa (Molekularpumpensystem) Leckrate: 2,0×10^-10Pa.m³/S Das Material besteht aus 304 Edelstahlschweißen und einer elektrochemischen Oberflächenpolierbehandlung. Der aktive Teil ist mit einem Gummidichtring abgedichtet, der inaktive Teil mit einem Kupferdichtring. Die Kraftübertragung erfolgt über eine magnetische Kupplung. Die Vakuumkammer verfügt über eine magnetische Zielposition, einen Satz Verdampfungselektroden (zwei) und 2 Strahlquellenofenpositionen (Standardofen mit 1 Strahlquelle). Ein Satz Durchflussmesser (ein Satz Argongas) mit einem φ150-Glasbeobachtungsfenster und einer C35-Flanschschnittstelle ist reserviert.
	2. Sputtertargetkopf: 2 Zoll (φ50,8 mm) Arbeitsvakuum: 10 Pa ~ 0,2 Pa. Zielmaterialnutzungsrate: >35 % (Standard-Kupferziel 3 mm, Zieloberflächenvakuum 0,5 Pa) MAX. Leistung: ＜240 W (vollständig gekühlt) Isolationsspannung: ＞2000 V (mit 1 500 W Gleichstromversorgung)
	3. Widerstandsverdampfung: Verdampfungsausgangsspannung: AC 0-8 V stufenlos einstellbar. Begrenzen Sie den Verdampfungsstrom auf 200 A. Begrenzen Sie die Verdampfungsleistung auf ＜1,6 kW. Die Temperatur ist unkontrollierbar und nicht messbar.
	4. Strahlquellenofen: Tiegelkapazität: 3 CC. Heiztemperatur: Raumtemperatur bis 700 °C. Die Heiztemperatur kann gemessen, eingestellt und geregelt werden. Genauigkeit der Temperaturregelung: ±0,5 °C. Quarztiegel mit Prallblech und Thermoelement als Standard. Stromversorgung: 500 W, 36 V.
	5. Beispielbühne: φ120. Temperaturregelung: Raumtemperatur – 500 °C. Geschwindigkeit: 1–20 U/min. Der Probentisch kann manuell angehoben und abgesenkt werden, mit einem maximal einstellbaren Hub von 50 mm.
	6. Filmdickenmessgerät EQ-TM106-1. 1) Stromversorgung: DC 5 V (±10 %), maximaler Strom 400 mA. 2) Frequenzauflösung: ±0,03 Hz. 3) Filmdickenauflösung: 0,0136 Å (Aluminium). 4) Genauigkeit der Filmdicke: ±0,5 %, abhängig von den Prozessbedingungen, insbesondere Sensorposition, Materialspannung, Temperatur und Dichte. 5) Messgeschwindigkeit: 100 ms – 1 s/Zeit, einstellbar. 6) Messbereich: 500000Å (Aluminium). 7) Standard-Sensorkristall: 6 MHz. 8) Computerschnittstelle: RS-232/485 serielle Schnittstelle (Baudrate 1200, 2400, 4800, 9600, 19200, 38400 einstellbar, Datenbit: 8, Stoppbit: 1, Check: keine) 9) Analogausgang: 8-Bit-Auflösung, PWM-Pulsweitenmodulationsausgang (Open Collector oder interner 5-V-Ausgang) 10) Arbeitsumgebung: Temperatur 0–50 °C, Luftfeuchtigkeit 5–85 % relative Luftfeuchtigkeit, keine Kondensation. 11) Abmessungen: 90 mm × 50 mm × 18 mm.
	7. Die Anlage ist standardmäßig mit einem Kühler (Modell KJ5000) ausgestattet. Kunden müssen ihren eigenen Kühler und deionisiertes oder gereinigtes Wasser bereitstellen.
	8. Leistungsaufnahme der gesamten Maschine: AC220V/50Hz. Leistung <3,5KW.
	9. Produktspezifikationen: Größe: ca. 1100 mm × 650 mm × 1100 mm. Gewicht: ca. 160 kg.

Über uns:

Wir verfügen über moderne Produktionsanlagen und ein strenges Qualitätsmanagementsystem, um sicherzustellen, dass jedes Produkt internationalen Standards entspricht. Unser Sputter-Coater mit Einzelkopf eignet sich besonders zum Aufdampfen sauerstoffempfindlicher Metallfilme. Er zeichnet sich durch stabile Leistung aus und wird häufig in der Materialforschung eingesetzt. Unser Forschungs- und Entwicklungsteam arbeitet kontinuierlich an Innovationen und kombiniert Marktnachfrage und Kundenfeedback, um präzisere und effizientere Lösungen zu entwickeln. Dank unserer langjährigen Branchenerfahrung und unseres technischen Know-hows haben wir uns nicht nur einen guten Ruf in der Branche erarbeitet, sondern auch die hohe Anerkennung vieler Kunden gewonnen.

Magnetron plasma sputtering coater