Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichter
1. Das Endvakuum des Sputtercoaters mit Einzelkopf kann 8,0 x 10-5 Pa erreichen.
2. Der Sputtercoater mit Einzelkopf ist mit 1 Verdampfungsheizschiffchen, 2 Strahlquellenofenstationen (1 Strahlquellenofen ist Standard), 1 Satz Durchflussmesser (ein Satz Argongas) mit φ150-Glasbeobachtungsfenster ausgestattet.
3. Nachdem Sie den Sputtercoater mit Einzelkopf erhalten haben, bieten wir Ihnen auch umfassende Kundendienstleistungen, wie beispielsweise eine Fernanleitung.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 10 Arbeitstage
- 50 Sätze
- Information
Einführung des Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichters:
Der Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Coater VTC-1HD-ZF2 ist eine multifunktionale Hochvakuum-Beschichtungsanlage mit einem Magnetron-Sputter-Gerät für Einzeltargets. Mit dem Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Coater können ein- oder mehrschichtige ferroelektrische Filme, leitfähige Filme, Legierungsfilme, Halbleiterfilme, Keramikfilme, dielektrische Filme, optische Filme, Oxidfilme, Hartfilme, Polytetrafluorethylenfilme usw. hergestellt werden.
Vorteile des Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichters:
1. Der Magnetron-Plasma-Sputter-Coater ist mit einem Dampfabscheidungs-Heizschiffchen ausgestattet, das sich besonders für die Dampfabscheidung sauerstoffempfindlicher Metallschichten (wie Ti, Al, Au usw.) eignet. Über dem Heizschiffchen des Magnetron-Plasma-Sputter-Coaters befindet sich eine drehbare Blende, zwei Strahlquellen-Ofenstationen (ein Strahlquellen-Ofen ist Standard). Ein Durchflussmesser (ein Argongas-Set) mit einem φ150-Glas-Beobachtungsfenster ist ebenfalls vorhanden.
2. Anwendungsbereich des Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichters: Geräteherstellung von Perowskit-Materialien, zweidimensionalen Materialien, Photovoltaik-Solarzellen usw.
3.3. Sputter-Coater mit Einzelkopf-Stromversorgung: AC 220 V/50 Hz. Leistung <3,5 kW.
Technische Parameter des Magnetron-Plasma-Sputter-Beschichters:
| Produktname | VTC-1HD-ZF2 Hochvakuum-Magnetron-Sputter-Beschichter |
| Produktmodell | VTC-1HD-ZF2 |
| Hauptparameter | 1. Vakuumkammer: φ324X330 Endvakuum 8,0 x 10-5 Pa (Molekularpumpensystem) Leckrate: 2,0 x 10-10Pa.m3/s Das Material besteht aus geschweißtem Edelstahl 304 und einer elektrochemischen Oberflächenpolitur. Der aktive Teil ist mit einem Gummidichtring abgedichtet, der inaktive Teil mit einem Kupferdichtring. Die Kraftübertragung erfolgt über eine magnetische Kupplung. Die Vakuumkammer verfügt über eine magnetische Zielposition, einen Satz Verdampfungselektroden (zwei) und 2 Strahlquellenofenpositionen (Standardofen mit 1 Strahlquelle). Ein Satz Durchflussmesser (ein Satz Argongas) mit einem φ150-Glasbeobachtungsfenster und einer C35-Flanschschnittstelle ist reserviert. |
2. Sputtertargetkopf: 2 Zoll (φ50,8 mm) Arbeitsvakuum: 10 Pa ~ 0,2 Pa. Zielmaterialnutzungsrate: >35 % (Standard-Kupferziel 3 mm, Zieloberflächenvakuum 0,5 Pa) MAXIMALE Leistung: <240 W (vollständig gekühlt) Isolationsspannung: >2000V (mit 1 500W DC-Netzteil) | |
3. Widerstandsverdampfung: Verdampfungsausgangsspannung: AC 0-8 V stufenlos einstellbar. Grenzverdampfungsstrom 200A. Begrenzen Sie die Verdampfungsleistung auf <1,6 kW. Die Temperatur ist unkontrollierbar und nicht messbar. | |
4. Strahlquellenofen: Tiegelkapazität: 3 CC. Heiztemperatur: Raumtemperatur bis 800°C. Die Heiztemperatur kann gemessen, eingestellt und geregelt werden. Genauigkeit der Temperaturregelung: ±0,5 °C. Quarztiegel mit Prallblech und Thermoelement als Standard. Stromversorgung: 500 W, 36 V. | |
5. Beispielbühne: φ120. Temperaturregelung: Raumtemperatur – 500 °C. Geschwindigkeit: 1–20 U/min. Der Probentisch kann manuell angehoben und abgesenkt werden, mit einem maximal einstellbaren Hub von 50 mm. | |
6. Filmdickenmessgerät EQ-TM106-1. 1) Stromversorgung: DC 5 V (±10 %), maximaler Strom 400 mA. 2) Frequenzauflösung: ±0,03 Hz. 3) Filmdickenauflösung: 0,0136 Å (Aluminium). 4) Genauigkeit der Filmdicke: ±0,5 %, abhängig von den Prozessbedingungen, insbesondere Sensorposition, Materialspannung, Temperatur und Dichte. 5) Messgeschwindigkeit: 100 ms – 1 s/Zeit, einstellbar. 6) Messbereich: 500000Å (Aluminium). 7) Standard-Sensorkristall: 6 MHz. 8) Computerschnittstelle: RS-232/485 serielle Schnittstelle (Baudrate 1200, 2400, 4800, 9600, 19200, 38400 einstellbar, Datenbit: 8, Stoppbit: 1, Prüfung: keine) 9) Analogausgang: 8-Bit-Auflösung, PWM-Pulsweitenmodulationsausgang (Open Collector oder interner 5-V-Ausgang) 10) Arbeitsumgebung: Temperatur 0–50 °C, Luftfeuchtigkeit 5–85 % relative Luftfeuchtigkeit, keine Kondensation. 11) Abmessungen: 90 mm × 50 mm × 18 mm. | |
| 7. Die Anlage ist standardmäßig mit einem Kühler (Modell KJ5000) ausgestattet. Kunden müssen einen eigenen Kühler und deionisiertes oder gereinigtes Wasser bereitstellen. | |
| 8. Leistungsaufnahme der gesamten Maschine: AC 220 V/50 Hz. Leistung <3,5 kW. | |
9. Produktspezifikationen: Größe: ca. 1300 mm × 660 mm × 1200 mm. Gewicht: ca. 160 kg. |
Über uns:
Wir verfügen über moderne Produktionsanlagen und ein strenges Qualitätsmanagementsystem, um sicherzustellen, dass jedes Produkt internationalen Standards entspricht. Unser Sputter-Coater mit Einzelkopf eignet sich besonders zum Aufdampfen sauerstoffempfindlicher Metallfilme. Er zeichnet sich durch stabile Leistung aus und wird häufig in der Materialforschung eingesetzt. Unser Forschungs- und Entwicklungsteam arbeitet kontinuierlich an Innovationen und kombiniert Marktnachfrage und Kundenfeedback, um präzisere und effizientere Lösungen zu entwickeln. Dank unserer langjährigen Branchenerfahrung und unseres technischen Know-hows haben wir uns nicht nur einen guten Ruf in der Branche erarbeitet, sondern auch die hohe Anerkennung vieler Kunden gewonnen.
