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Anwendung von Spin Coatern im Halbleiter-Fotolithografieprozess

Entschleimung: Mit dem Sprüh-Spincoater VTC-200-4P wird im Nass-Entschleimungsverfahren organisches Lösungsmittel auf den Fotolackfilm auf der Musteroberfläche getropft. Dadurch löst sich der Fotolackfilm auf und entfernt ihn. Zurück bleibt ein sauberes Muster. Zur Beschichtung stehen folgende Beschichtungsanlagen zur Verfügung: VTC-100PA Vakuum-Spincoater, VTC-100PA-II Vakuum-Spincoater mit oberer Heizabdeckung, VTC-100 Vakuum-Spincoater, VTC-200 Vakuum-Spincoater, VTC-200PV Vakuum-Rotationsbeschichtungsanlage, VTC-200-4P Sprüh-Rotationsbeschichtungsanlage und VTC-100PA-UV Ultraviolett-Spincoater. Je nach Verfahren können unterschiedliche Spincoater verwendet werden.

2025/06/16
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Die Vorteile der Verwendung eines Laborkühlers

Ein Laborkühler ist ein speziell entwickeltes Kühlsystem, das die Temperatur von Laborgeräten oder -prozessen konstant hält. Das Funktionsprinzip besteht darin, das Kühlmittel (Wasser, Ethylenglykol oder ein spezielles Kältemittel) in einem geschlossenen Kreislauf zirkulieren zu lassen und so die Wärme vom Gerät oder der Probe abzuführen. Dieser Prozess stellt sicher, dass die Temperatur stabil und im erforderlichen Bereich bleibt, was für die Genauigkeit und Zuverlässigkeit vieler Laboranwendungen entscheidend ist.

2025/06/13
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Wie verbessert der Labortrockenofen die Arbeitseffizienz?

Mit der rasanten Entwicklung der modernen Industrie hat sich die Bedeutung des Produkts allmählich bestätigt. Diese Geräte finden auch in Branchen wie der Pharmaindustrie, der Elektronik und der Materialwissenschaft breite Anwendung. Diese Branchen stellen zudem hohe Anforderungen an die Trocknung und Aushärtung empfindlicher Materialien. Der von uns produzierte Labor-Trockenofen erfüllt die hohen Anforderungen dieser Branchen voll und ganz und unterstützt Kunden bei der Erzielung leistungsstarker Produktionen oder Experimente.

2025/05/29
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Was ist der Unterschied zwischen DC, IF und RF beim Sputtern?

Die Entstehung und Anwendung der Sputtertechnologie hat viele Phasen durchlaufen. Nach über 30 Jahren Entwicklung hat sich die Magnetron-Sputtertechnologie zu einer unersetzlichen Methode für optische, elektrische und andere funktionale Dünnschichten entwickelt. Wie gut kennen Sie sich damit aus?

2025/03/21
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Welche Faktoren beeinflussen das Hochvakuum-Magnetronsputtern?

Basierend auf dem Magnetronsputtern werden Hochvakuum und Hochtemperatur-Wachstumsumgebungen sowie Plasmatechnologie kombiniert, um die Reaktionseffizienz der reaktiven Abscheidung zu verbessern und so die Magnetronsputtern-Filmepitaxie zu realisieren. Der unter Hochvakuumbedingungen hergestellte Film weist eine bessere Gitterorientierung und hervorragendere Kristalleigenschaften auf. Er findet breite Anwendung in supraleitenden Quanten, ferroelektrischen, piezoelektrischen und thermoelektrischen Materialien und weiteren Bereichen. Das Hochvakuum trägt dazu bei, den Einfluss von Verunreinigungen zu reduzieren und sicherzustellen, dass die gesputterten Partikel während des Abscheidungsprozesses nicht mit anderen Gasen reagieren.

2025/03/20
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Glänzen Sie auf der Asia Photonics Expo (APE 2025)

Die APE 2025 ist eine der größten und einflussreichsten Messen für fortschrittliche Werkstoffe und Energietechnologien in Asien und bringt weltweit führende Unternehmen und Forschungseinrichtungen zusammen. Unser Stand konnte Hunderte von Besuchern begrüßen, darunter Fachleute namhafter Universitäten, Forschungsinstitute und Unternehmen, und wurde zu einem der Schwerpunkte der Ausstellung.

2025/02/28
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