sphärisches gepulstes Laserauftragsbeschichtungssystem
Dieses System ist eine Forschungs- und Entwicklungsanlage für sphärische gepulste Laserabscheidung (PLD). Die gepulste Laserabscheidungstechnologie findet breite Anwendung und dient zur Herstellung dünner Schichten verschiedenster Substanzen wie Metalle, Halbleiter, Oxide, Nitride, Carbide, Boride, Silicide, Sulfide und Fluoride. Sie wird sogar zur Herstellung von Filmen aus schwer zu synthetisierenden Materialien wie Diamant und kubischem Nitrid eingesetzt.
- Shenyang Kejing
- Shenyang, China
- 44 Werktage
- 50 Sets
- Information
Produkteinführung
Dersphärisches gepulstes Laserabscheidungssystem (PLD)ist eine leistungsstarke Forschungs- und Entwicklungsplattform für die Herstellung fortschrittlicher Dünnschichten. Die gepulste Laserabscheidung (PLD) ist ein Verfahren, bei dem ein hochenergetischer Laserstrahl auf einen kleinen Bereich des Zielmaterials fokussiert wird. Die hohe Energiedichte verdampft oder ionisiert einen Teil des Zielmaterials, wodurch das abgetragene Material zum Substrat wandert und dort zu einer Dünnschicht kondensiert.
Unter den verschiedenen Dünnschichtherstellungsverfahren hat sich die PLD (Pulsed Laser Deposition) zur Abscheidung einer breiten Palette von Materialien, darunter Metalle, Halbleiter, Oxide, Nitride, Carbide, Boride, Silicide, Sulfide und Fluoride, weit verbreitet. Sie ermöglicht auch die Herstellung von Filmen aus Materialien, die andernfalls schwer zu synthetisieren sind, wie beispielsweise Diamant und kubisches Bornitrid (c-BN).
Dersphärisches PLD-SystemDas System zeichnet sich durch eine sphärische Vakuumkammer aus und nutzt hochenergetische Laserpulse (Leistung < 4 kW) für die präzise Targetverdampfung. Dies ermöglicht die gleichmäßige Abscheidung dünner Schichten von Metallen, Oxiden und Nitriden. Die hohe Vakuumleistung gewährleistet eine außergewöhnliche Schichtreinheit. Die drehbare Targetanordnung mit vier Positionen ermöglicht die sequentielle Abscheidung mehrerer Materialien ohne Vakuumunterbrechung.
Das System besteht aus einer Edelstahlkammer mit Beobachtungsfenster und MFC-gesteuertem Gaseinlass und ermöglicht Experimente mit hochschmelzenden Materialien wie Diamant und kubischen Nitriden. Es eignet sich ideal für Universitäten und Forschungsinstitute, die sich mit anspruchsvollen Dünnschichtuntersuchungen befassen, insbesondere für solche, die eine präzise Kontrolle der Schichtzusammensetzung und Mikrostruktur erfordern.
Hauptmerkmale
1. Konstruktion einer sphärischen Vakuumkammer:Hergestellt aus Edelstahl 304 mit Argon-Lichtbogenschweißung, mit einem effektiven Kammerdurchmesser von Φ300 mm. Ausgestattet mit einem Sichtfenster zur Echtzeit-Überwachung des Experiments.
2. Ultrahochvakuumleistung:Erreicht ein extrem hohes Endvakuum, eine hohe Pumpgeschwindigkeit und eine geringe Leckrate.
3. Präzise Laserdeposition:Nutzt hochenergetische Laserpulse (<4 kW) zum Verdampfen von Zielmaterialien und unterstützt so die Dünnschichtabscheidung von Metallen, Oxiden, Nitriden und anderen Verbindungsmaterialien.
4. Vier-Ziel-Rotationssystem:Verfügt über planetarische und Selbstrotation mit Einzelzielbelichtung über einen Verschluss und ermöglicht so die kontinuierliche Abscheidung mehrerer Materialien.
5. Hochtemperatur-Substrathalter:Ermöglicht eine präzise Temperaturregelung und eine einstellbare Drehzahl, um komplexen Prozessanforderungen gerecht zu werden.
6. Kompatibilität mit Forschungsstandards:Geeignet zur Herstellung von feuerfesten Materialien wie Diamant- und kubischen Nitridfilmen, ideal für die Forschung und Entwicklung fortschrittlicher Materialien.
7. Intelligente Sicherheitskonfiguration:Ausgestattet mit integrierten Back-, Beleuchtungs- und Wasserdruckalarmsystemen; der MFC-gesteuerte Gaseinlass (0–100 sccm) gewährleistet stabile Prozessbedingungen.
8. Schnelle Wiederherstellungsfähigkeit:Hält das Vakuum ≤20 Pa nach einer 12-stündigen Pumpenabschaltung aufrecht und verbessert so die Effizienz der Experimente.
9. Modulare Struktur:Einstellbarer Abstand zwischen Substrathalter und rotierendem Targetsystem zur flexiblen Anpassung an verschiedene Beschichtungsaufbauten.
10. Optimiert für die Kleinserienfertigung:Geeignet für Universitäten und Forschungsinstitute, da es explorative Forschung mit präziser Dünnschichtfertigung verbindet.
TTechnische Parameter
Produktname | Sphärisches gepulstes Laserauftragsbeschichtungssystem (PLD) |
Installationsbedingungen | 1. Umgebungstemperatur: 10℃～35℃ 2. Relative Luftfeuchtigkeit: maximal 75 % 3. Stromversorgung: 220 V, einphasig, 50 ± 0,5 Hz 4. Geräteleistung: weniger als 4 kW 5. Wasserversorgung: Wasserdruck von 0,2 MPa bis 0,4 MPa, Wassertemperatur von 15 °C bis 25 °C, 6. Die Umgebung des Geräts sollte sauber und ordentlich sein, die Luft rein und frei von Staub und Gasen, die Korrosion an elektrischen Geräten oder anderen Metalloberflächen verursachen oder eine Leitfähigkeit zwischen Metallen hervorrufen könnten. |
Hauptparameter (Spezifikation) | 1. Das System verfügt über eine sphärische Struktur und eine manuelle Eingangstür. 2. Die Komponenten und Zubehörteile der Vakuumkammer sind alle aus hochwertigem Edelstahl (304) gefertigt, argon-lichtbogengeschweißt und die Oberfläche ist glasgestrahlt und elektrochemisch poliert und passiviert. 3. Die Vakuumkammer ist mit einem Sichtfenster ausgestattet. Der effektive Durchmesser der Vakuumkammer beträgt Φ300 mm. 4. Grenzwert des Vakuumgrades: ≤6,67×10-5Pa (Nach dem Backen und Entgasen mit einer 600L/S Molekularpumpe Luft pumpen und für die vordere Stufe eine 8L/S Molekularpumpe verwenden); • Leckrate der Vakuumleckerkennung im System: ≤5,0×10-7Pa.L/S; Das System beginnt, Luft aus der Atmosphäre auf 8,0×10 zu pumpen.-4Pa, das in 40 Minuten erreichbar ist; • Der Vakuumgrad nach 12 Stunden Pumpenstillstand: ≤20 Pa 5. Probentisch: Die Probengröße beträgt φ40mm, die Rotationsgeschwindigkeit 1-20RPM und der Abstand zwischen dem Substrattisch und dem Rotationsziel 40-90mm. 6. Die maximale Heiztemperatur der Probe beträgt 800℃, die Temperaturgenauigkeit liegt bei ±1℃. Zur Temperaturregelung wird ein Temperaturmessgerät verwendet. 7. Vier-Stationen-Rotationsziel: Jede Zielposition hat einen Durchmesser von φ40 mm, nur eine Zielposition ist auf der Blende/dem Verschluss sichtbar, der Laserstrahl muss die oberste Zielposition treffen, und das Rotationsziel verfügt über die Funktionen der Umdrehung und der automatischen Rotation. 8. In der Vakuumkammer sind Back-, Beleuchtungs- und Wasserdruckalarmvorrichtungen installiert. 9. MFC-Einweg-Massenstrommesser (zur Steuerung der Ansaugluft): 0-100 sccm |
Garantie
Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslangem Support (ausgenommen sind durch unzureichende Lagerbedingungen verursachte Rostschäden).
Logistik
