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Kompakt und effizient, eine unverzichtbare Beschichtungsanlage für Labore
Im Bereich der modernen Materialwissenschaften und der mikroskopischen Analyse wird die Plasma-Sputter-Technologie häufig zur Dünnschichtabscheidung eingesetzt. UnsereEinzelziel-Plasma-Sputter-Beschichtungsmaschineist in der Praxis effizient und präzise. Zudem vereinfacht es durch seine hohe Leistung die Arbeit der Bediener und legt damit einen Grundstein in der Branche.
Einzelziel-Plasma-Sputter-Beschichtungsmaschinekann eine Sputterbeschichtung verschiedener Metalle wie Gold, Indium, Platin, Silber usw. erreichen und seine Höhe ist einstellbar. Es können 8 SEM-Proben gleichzeitig beschichtet werden; das Produkt kann eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit und Reinheit der Beschichtung bieten und gleichzeitig die Qualität der Filmschicht sicherstellen.
Einzelziel-Plasma-Sputter-Beschichtungsmaschineist mit einem Vakuummeter und einem Sputterstrommeter ausgestattet. Benutzer können den Arbeitsstatus in Echtzeit überwachen und jeder Schritt des Vorgangs wird unter den besten Bedingungen ausgeführt. Durch Einstellen des Sputterstromreglers und des Mikrovakuumluftventils kann der Bediener den Druck und den Ionisierungsstrom der Vakuumkammer genau steuern, um den idealen Beschichtungseffekt zu erzielen.
Unser Unternehmen entwirft und produziert dieseEinzelziel-Plasma-Sputter-Beschichtungsmaschineseit vielen Jahren. Wir verfügen über Spitzentechnologie, erfahrenes Personal und aufmerksamen Service. Wenn Sie an unseren Produkten interessiert sind, können Sie sich gerne an uns wenden.